[发明专利]滤色片及其制备方法

权利要求书

1.一种滤色片，其特征在于，包括基底，以及相互间隔的设置在所述基底上的多个色阻；

每个所述色阻包括两个边缘部与位于两个边缘部之间的主体部；

所述色阻包括第一色阻，所述第一色阻的至少一个边缘部的膜厚大于所述主体部的膜厚；所述主体部的膜厚为1.7μm-2.7μm，所述边缘部的膜厚为2.7μm-3.7μm；所述主体部的宽度为9μm-10μm，所述边缘部的宽度为4.5μm-5μm；

所述滤色片还包括与所述第一色阻相互间隔设置的第二色阻与第三色阻；所述第一色阻的边缘部的膜厚大于所述主体部的膜厚；所述第二色阻的边缘部的膜厚与所述主体部的膜厚相同；所述第三色阻的的边缘部的膜厚大于所述主体部的膜厚；

所述第一色阻、所述第二色阻与所述第三色阻在所述滤色片的行向上相互间隔交错排列，且所述第二色阻位于所述第一色阻与所述第三色阻之间；所述第一色阻为绿色色阻，所述第二色阻为红色色阻，所述第三色阻为蓝色色阻；

相邻所述色阻的相邻边缘部之间无缝隙。

2.如权利要求1所述的滤色片，其特征在于，所述滤色片还包括设置在所述基底上的黑矩阵，所述黑矩阵位于任意两相邻色阻之间。

3.如权利要求1所述的滤色片，其特征在于，所述第一色阻的所述两个边缘部的膜厚相等。

4.如权利要求1所述的滤色片，其特征在于，所述主体部的宽度为所述边缘部的宽度的2倍。

5.一种彩膜基板，包括如权利要求1-4任一项所述的滤色片。

6.一种显示装置，包括如权利要求5所述的彩膜基板、阵列基板及位于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的支撑物。

7.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述支撑物对应位置处的所述色阻的膜厚等于所述色阻的所述主体部的膜厚；或者，所述支撑物对应于所述色阻的所述主体部。

8.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板包括呈阵列排列的多个像素单元，所述彩膜基板上的每个所述色阻对应于每个所述像素单元；

每个所述像素单元包括透光区，所述色阻的所述边缘部的长度不大于所述透光区的长度。

9.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述支撑物对应于所述色阻的所述边缘部之外的地方。

10.一种滤色片的制备方法，包括通过构图工艺在基底上形成不同颜色的色阻的步骤，其特征在于，形成所述色阻的步骤包括：

步骤一：涂覆工艺，在基底上涂覆第一颜色着色层并固化；

步骤二：曝光工艺，通过第一光掩模对第一颜色着色层进行曝光工艺，所述第一光掩模具有不透光部、透光部及部分透光部；

步骤三：显影工艺，对经曝光了的第一颜色着色层显影，形成第一色阻，所述第一色阻的边缘部的膜厚大于所述第一色阻的主体部的膜厚；

步骤四：涂覆工艺，在基底上涂覆第二颜色着色层并固化；

步骤五：曝光工艺，通过第二光掩模对第二颜色着色层进行曝光工艺，所述第二光掩模具有不透光部与透光部；

步骤六：显影工艺，对经曝光了的第二颜色着色层显影，形成第二色阻；其中，所述第一光掩模的部分透光部对应所述第一色阻的主体部；重复所述步骤一、步骤二与步骤三形成第三色阻，所述第一色阻、所述第二色阻与所述第三色阻在所述滤色片的行向上相互间隔交错排列，且所述第二色阻位于所述第一色阻与所述第三色阻之间；所述第一色阻为绿色色阻，所述第二色阻为红色色阻，所述第三色阻为蓝色色阻；所述主体部的膜厚为1.7μm-2.7μm，所述边缘部的膜厚为2.7μm-3.7μm；所述主体部的宽度为9μm-10μm，所述边缘部的宽度为4.5μm-5μm；相邻所述色阻的相邻边缘部之间无缝隙。

11.如权利要求10所述滤色片的制备方法，其特征在于，所述在基底上形成不同颜色的色阻的步骤之前，还包括：通过构图工艺在基底上形成黑矩阵。

12.如权利要求10所述滤色片的制备方法，其特征在于，所述主体部的宽度为所述边缘部的宽度的2倍。