[发明专利]一种具有色散聚焦的椭圆反射式波带片设计和制作方法

权利要求书

1.一种具有色散聚焦的离轴椭圆反射式波带片设计和制作方法，其特征在于包括以下步骤：

a)根据需要确定椭圆反射式波带片的物距、像距、掠入射角以及设计的中心波长，在直角坐标系下选取Y=0的波带片基底平面；

b)根据步骤a)的条件，构造出第1个椭球体，椭球体的长轴为物距、像距之和，焦点坐标由物距、像距及掠入射角决定，椭球体的两个焦点则为椭圆反射式波带片的物点和像点；

c)根据步骤b)所构造的第1个椭球体和菲涅尔半波带法，构造出第2个、第3个……第n个椭球体；

d)由步骤c)所构造的第2个至第n个椭球体与步骤a)中所选取Y=0的波带片基底平面所相交的环带，构成椭圆反射式波带片的环带结构；

e)截取步骤d)中的环带结构的外侧部分，获得离轴椭圆反射式波带片的环带结构；

f)波带片基底平面为透明衬底，在透明衬底上以间隔一个环带结构的方式涂覆高反射率材料，通过光刻方法制作出离轴椭圆反射式波带片。

2.根据权利要求1所述的具有色散聚焦的离轴椭圆反射式波带片设计和制作方法，其特征在于：所述的离椭圆反射式波带片第n个环带结构的布局由以下公式确定：

                                                

式中为椭圆反射式波带片环带的X方向的中心坐标，a为长轴，b为短轴，为第n环带的x轴坐标，为第n环带的z轴坐标。

3.根据权利要求1所述的具有色散聚焦的离轴椭圆反射式波带片设计和制作方法，其特征在于：步骤f中的高反射率材料为金、铝、铜、镍、铌、钽、铬中的一种。

4.根据权利要求3所述的具有色散聚焦的离轴椭圆反射式波带片设计和制作方法，其特征在于：所述的高反射率材料的厚度为300纳米到800纳米。

5.根据权利要求1所述的具有色散聚焦的离轴椭圆反射式波带片设计和制作方法，其特征在于：步骤f中透明衬底为由二氧化硅、碳化硅、氮化硅或者聚酰亚胺中的一种材料或多种制成。