[发明专利]光波导的制造方法在审

专利信息
申请号: 201480056491.X 申请日: 2014-10-16
公开(公告)号: CN105723261A 公开(公告)日: 2016-06-29
发明(设计)人: 三上修;大森健太郎;绳田秀行 申请(专利权)人: 学校法人东海大学;日产化学工业株式会社
主分类号: G02B6/138 分类号: G02B6/138;B29D11/00;C08F290/14;C09D183/04;C08G77/20;G02B1/111;G03F7/075;G03F7/09
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 黄媛;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 波导 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光波导的制造方法,是制造从支持体的表面沿相对于该表面不垂直的倾斜方向传播光的光波导的方法,

其包括下述工序:

(1)在该支持体上具备防反射膜的工序,

(2)在所述防反射膜上配放感光性树脂组合物,隔着光掩模用从相对于所述支持体表面非垂直的方向入射的光线将该感光性树脂组合物进行曝光并使其固化的工序,以及

(3)通过显影来除去未曝光的感光性树脂组合物的工序。

2.根据权利要求1所述的制造方法,所述防反射膜是由聚合性组合物形成的膜,所述聚合性组合物包含:

(a)反应性有机硅化合物100质量份,所述反应性有机硅化合物是通过将式[1]所示的二芳基硅酸化合物和式[2]所示的烷氧基硅化合物在酸或碱的存在下进行缩聚而得的,以及

(b)紫外线吸收剂0.1~10质量份,

式中,Ar1和Ar2各自独立地表示可以被碳原子数1~6的烷基取代的苯基,Ar3表示具有至少1个具有聚合性双键的基团的苯基、或具有至少1个具有聚合性双键的基团的萘基,R1表示甲基或乙基,R2表示甲基、乙基或乙烯基苯基,a表示2或3。

3.根据权利要求2所述的制造方法,所述感光性树脂组合物包含所述(a)反应性有机硅化合物。

4.一种光波导,其是通过权利要求1~3中的任一项所述的制造方法获得的,纵横比为3以上。

5.一种光波导,其是通过权利要求1~3中的任一项所述的制造方法获得的,与支持体的表面所成的角度为60度以上且小于90度。

6.一种防反射膜形成用组合物,其包含:

(a)反应性有机硅化合物100质量份,所述反应性有机硅化合物是通过将式[1]所示的二芳基硅酸化合物和式[2]所示的烷氧基硅化合物在酸或碱的存在下进行缩聚而得的,以及

(b)紫外线吸收剂0.1~10质量份,

式中,Ar1和Ar2各自独立地表示可以被碳原子数1~6的烷基取代的苯基,Ar3表示具有至少1个具有聚合性双键的基团的苯基、或具有至少1个具有聚合性双键的基团的萘基,R1表示甲基或乙基,R2表示甲基、乙基或乙烯基苯基,a表示2或3。

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