[发明专利]太阳能电池及其制造方法、半导体元件及其制造方法有效
申请号: | 201480051204.6 | 申请日: | 2014-09-17 |
公开(公告)号: | CN105556681B | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
发明(设计)人: | 汤本彻;平野稔幸;泽村享广;渡边明 | 申请(专利权)人: | 旭化成株式会社;国立大学法人东北大学 |
主分类号: | H01L31/0256 | 分类号: | H01L31/0256;H01L31/18 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 庞东成,李洋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能电池 及其 制造 方法 半导体 元件 | ||
1.一种晶体管,其具有至少1层半导体层,该半导体层包含无机颗粒和相对介电常数为5以上150以下的有机化合物,
所述无机颗粒为金属氧化物颗粒或硅颗粒,
所述半导体层中的所述无机颗粒的含量为10质量%以上90质量%以下,
所述半导体层的载流子迁移率为0.0001cm2/Vs以上。
2.一种薄膜晶体管,其具有至少1层半导体层,该半导体层包含无机颗粒和相对介电常数为5以上150以下的有机化合物,
所述无机颗粒为金属氧化物颗粒或硅颗粒,
所述半导体层中的所述无机颗粒的含量为10质量%以上90质量%以下,
所述半导体层的载流子迁移率为0.0001cm2/Vs以上。
3.一种晶体管的制造方法,该晶体管具有载流子迁移率为0.0001cm2/Vs以上的半导体层,该制造方法包括下述工序:
准备涂布液,将所准备的所述涂布液涂布至半导体层、绝缘体层、或具有电极的基板上的工序;和
使所涂布的所述涂布液干燥,从该涂布液中除去下述分散剂中的至少一部分的工序,
使所述涂布液干燥的温度为20℃以上150℃以下,
所述涂布液是包含无机颗粒、相对介电常数为5以上的有机化合物、和1种以上的分散剂的涂布液,并且,
所述无机颗粒为金属氧化物颗粒或硅颗粒,
所述涂布液中的所述无机颗粒的含量为0.1质量%以上49.9质量%以下,
所述涂布液中的所述有机化合物的含量为0.1质量%以上49.9质量%以下,
所述涂布液中的所述分散剂的含量为0.2质量%以上99.8质量%以下。
4.一种薄膜晶体管的制造方法,该薄膜晶体管具有载流子迁移率为0.0001cm2/Vs以上的半导体层,该制造方法包括下述工序:
准备涂布液,将所准备的所述涂布液涂布至半导体层、绝缘体层、或具有电极的基板上的工序;和
使所涂布的所述涂布液干燥,从该涂布液中除去下述分散剂中的至少一部分的工序,
使所述涂布液干燥的温度为20℃以上150℃以下,
所述涂布液是包含无机颗粒、相对介电常数为5以上的有机化合物、和1种以上的分散剂的涂布液,并且,
所述无机颗粒为金属氧化物颗粒或硅颗粒,
所述涂布液中的所述无机颗粒的含量为0.1质量%以上49.9质量%以下,
所述涂布液中的所述有机化合物的含量为0.1质量%以上49.9质量%以下,
所述涂布液中的所述分散剂的含量为0.2质量%以上99.8质量%以下。
5.涂布液在权利要求1所述的晶体管的制造中的应用,该涂布液包含无机颗粒、相对介电常数为5以上的有机化合物、和1种以上的分散剂,其中,
所述无机颗粒为金属氧化物颗粒或硅颗粒,
所述涂布液中的所述无机颗粒的含量为0.1质量%以上49.9质量%以下,
所述涂布液中的所述有机化合物的含量为0.1质量%以上49.9质量%以下,
所述涂布液中的所述分散剂的含量为0.2质量%以上99.8质量%以下。
6.涂布液在权利要求2所述的薄膜晶体管的制造中的应用,该涂布液包含无机颗粒、相对介电常数为5以上的有机化合物、和1种以上的分散剂,其中,
所述无机颗粒为金属氧化物颗粒或硅颗粒,
所述涂布液中的所述无机颗粒的含量为0.1质量%以上49.9质量%以下,
所述涂布液中的所述有机化合物的含量为0.1质量%以上49.9质量%以下,
所述涂布液中的所述分散剂的含量为0.2质量%以上99.8质量%以下。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭化成株式会社;国立大学法人东北大学,未经旭化成株式会社;国立大学法人东北大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480051204.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:钠离子二次电池用正极材料
- 下一篇:固体摄像装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的