[发明专利]具有气体供应的蒸发装置

说明书

描述了一种用于在由滚筒(170)支撑的基板(160)上沉积材料的蒸发装置(100)。所述蒸发装置包括：第一组蒸发坩埚(110)，所述第一组蒸发坩埚在沿第一方向(121)的第一线(120)上对齐，并且用于将经蒸发的材料沉积在所述基板上；第一气体供应管道(130)，所述第一气体供应管道在所述第一方向(121)上延伸，并且布置在所述第一组蒸发坩埚(110)中的至少一个蒸发坩埚与所述滚筒(170)之间；以及第二气体供应管道(140)，所述第二气体供应管道在所述第一方向(121)上延伸，并且用于利用开口(150)在所述第一组蒸发坩埚(110)与所述滚筒(170)之间提供气体，所述开口经成形并定位以改善材料沉积的均匀性。

技术领域

实施例涉及一种在基板上沉积材料的蒸发装置。实施例尤其涉及一种具有气体供应的蒸发装置，更确切地涉及一种包括蒸发坩埚和气体供应的蒸发装置。

背景技术

在柔性基板上沉积薄层是用于许多应用的生产工艺。在柔性基板涂覆装置的一个或多个腔室中涂覆柔性基板。柔性基板(诸如，由塑料或预先涂覆的纸制成的箔)在辊(roller)或滚筒上被引导，并且以此方式传递沉积材料源。经涂覆的基板的可能应用的范围从提供用于包装行业的经涂覆的箔到沉积用于柔性电子器件和高级技术应用(诸如，智能电话、平面屏幕TV和太阳能面板)的薄膜。

不同的沉积工艺可以用于实现具有所需性质的层。例如，在热蒸发工艺中，使薄铝层金属化到柔性基板上。以此类方式涂覆的基板可例如用于保护包装或装饰材料的生产。在进一步的工艺中(诸如，在反应涂覆工艺中)，除了来自材料源的经蒸发的材料之外，还将气体供应至基板以引起化学反应，从而影响已沉积在基板上的层。通过使用此类工艺，可控制基板的若干特性，诸如，水蒸气或氧的阻挡特性以及成品的透明特性。

对于成品，期望在基板上具有可靠且光学可接受的层，从而具有高质量的产品。同时，必须考虑沉积工艺的生产率，因为迄今为止，产生高质量产品的缓慢工艺由于随生产时间增加的成本而无法被客户接受。在已知的系统中，材料源的数量可经调整以改善生产率，用于基板的引导滚筒可经调整(诸如，被冷却，或以合适的方式定位)以实现所需的层性质，并且控制单元可监测并优化工艺以避免工艺操作中的不规则性。

然而，无论所采取的措施如何，不规则性在经涂覆的基板的光学外观中仍会出现，这在包装行业或装饰箔的情况下是不可接受的。鉴于上述内容，目标在于提供一种克服现有技术中的至少一些问题的蒸发装置。

发明内容

鉴于上述内容，提供一种根据独立权利要求的蒸发装置。另外的方面、优点和特征根据从属权利要求、说明书和附图是显而易见的。

根据一个实施例，提供一种用于在由滚筒支撑的基板上沉积材料的蒸发装置。所述蒸发装置包括：第一组蒸发坩埚，所述第一组蒸发坩埚在沿第一方向的第一线上对齐，并且用于将经蒸发的材料沉积在所述基板上；以及第一气体供应管道，所述第一气体供应管道在所述第一方向上延伸，并且布置在所述第一组蒸发坩埚中的至少一个蒸发坩埚与所述滚筒之间。所述蒸发装置进一步包括第二气体供应管道，所述第二气体供应管道在所述第一方向上延伸，并且用于利用开口在所述第一组蒸发坩埚与所述滚筒之间提供气体，所述开口经成形并定位以改善材料沉积的均匀性。

根据另一实施例，提供一种用于在由滚筒支撑的基板上沉积材料的蒸发装置。所述蒸发装置包括：第一组蒸发坩埚和第二组蒸发坩埚，所述第一组蒸发坩埚沿在第一方向上延伸的第一线对齐，所述第二组蒸发坩埚沿在所述第一方向上延伸的第二线对齐；以及第一气体供应，所述第一气体供应在所述第一方向上延伸，并且配置成用于为所述第一组蒸发坩埚和所述第二组蒸发坩埚供应气体。所述蒸发装置进一步包括第二气体供应，所述第二气体供应在所述第一方向上延伸，并且用于为所述第一组蒸发坩埚提供气体且包括管道，其中，所述管道包括沿所述第一方向基本上位于所述第一组蒸发坩埚中的蒸发坩埚的位置处的气体出口开口，并且沿所述第一方向在所述第二组蒸发坩埚中的蒸发坩埚的位置处是闭合的。