[发明专利]借助放大结构上的选择性沉积和结合的测定增强

权利要求书

1.一种增强对与基片结合的分析物的检测的方法，所述方法包括：

(a)获得基片，所述基片包括位于该基片的表面上的信号放大层，其中该信号放大层包括高放大区域和低放大区域，且其中所述高放大区域比所述低放大区域更多地放大所述表面处的信号；

(b)选择性地改性所述基片的低放大区域和/或高放大区域，由此增加分析物与高放大区域结合的概率和/或降低分析物与低放大区域结合的概率；

由此改进检测所述分析物的灵敏度和/或其他感测特性。

2.权利要求1的方法，其中选择性地改性包括将掩蔽材料沉积到低放大区域上，以减少捕捉剂结合。

3.任一前述权利要求的方法，其中选择性地改性包括将粘附材料沉积到高放大区域上，以增加捕捉剂结合。

4.任一前述权利要求的方法，其中选择性地改性包括改变低放大区域的表面化学特性，以减少捕捉剂与低放大区域的结合。

5.任一前述权利要求的方法，其中选择性地改性包括改变高放大区域的表面化学特性，以增加捕捉剂与高放大区域的结合。

6.任一前述权利要求的方法，其中改性包括阴影沉积。

7.任一前述权利要求的方法，其中改性包括从相同沉积角度或多个不同沉积角度进行多次阴影沉积。

8.任一前述权利要求的方法，其中选择性地改性是通过掩蔽低放大区域完成的。

9.权利要求8的方法，其中掩蔽是使用PMMA、聚苯乙烯、嵌段共聚物、二氧化硅或氮化硅完成的。

10.任一前述权利要求的方法，其中所述方法还包括将捕捉剂附接于高放大区域，其中该捕捉剂选择性地结合所述分析物。

11.任一前述权利要求的方法，其中所述分析物选自蛋白质、肽、DNA、RNA、核酸、小分子、细胞、和具有不同形状的纳米颗粒。

12.任一前述权利要求的方法，其中在目标分析物与所述高放大区域结合之前或之后，用标记物标记目标分析物。

13.任一前述权利要求的方法，其中被放大的信号为拉曼散射、色度、发光、荧光、电致发光、化学发光、和/或电致化学发光。

14.任一前述权利要求的方法，其中选择性掩蔽增强下述的一者或多者：信号强度、感测信号谱、检测限、检测动态范围、和感测的信号变化减少(误差棒更小)。

15.任一前述权利要求的方法，其中所述检测包括(a)测量在某一区域上的信号的总和，或(b)对图像中某一区域中的各个结合事件进行计数，由此提供对所述样品中的一种或多种分析物的量的估计。

16.任一前述权利要求的方法，其中所述信号放大层是D2PA。

17.任一前述权利要求的方法，其中所述信号放大层包括一个或多个金属盘和显著连续的金属膜，其中所述金属盘的主要部分与所述金属膜是分开的。

18.权利要求17的方法，其中所述金属盘具有选自以下形状组的形状：圆形、多边形、金字塔形、椭圆形、长条形、或其任何组合。

19.权利要求17的方法，其中所述金属盘与所述金属膜分开的距离是0.5到30nm的范围，并且所述盘的平均横向尺寸在20nm到250nm的范围。

20.任一前述权利要求的方法，其中所述信号放大层包括一个或多个金属盘，所述金属盘具有选自下组的形状：圆形、多边形、金字塔形、椭圆形、长条形、或其任何组合，其中所述盘的平均横向尺寸在20nm到250nm的范围，并且邻近的盘之间的间隙在0.5到30nm的范围。

21.任一前述权利要求的方法，其中所述高放大区域包括所述表面。

22.任一前述权利要求的方法，其中所述高放大区域是具备具有尖锐曲率的金属纳米结构的区域，或者两个金属结构之间的小间隙的区域。

23.任一前述权利要求的方法，其中所述选择性掩蔽包括以朝向放大表面的一个方向沉积大致呈束的形式的掩蔽材料。

24.权利要求23的方法，其中，取决于掩蔽区域，所述方向与放大表面成不同的角度。