[实用新型]一种复合基板结构及具有复合基板结构的触控面板

权利要求书

1.一种复合基板结构，其特征在于，包括：

一透明基板；

一类钻碳层，设置于所述透明基板上，其中所述类钻碳层的厚度小于等于15nm；

一抗反射膜，设置于所述透明基板与所述类钻碳层之间。

2.根据权利要求1所述之复合基板结构，其特征在于：所述抗反射膜包含复数第一抗反射层和数量对等的复数第二抗反射层，且所述第一抗反射层与所述第二抗反射层系交错层叠。

3.根据权利要求2所述之复合基板结构，其特征在于：所述第二抗反射层的折射率小于所述第一抗反射层的折射率。

4.根据权利要求3所述之复合基板结构，其特征在于：所述第一抗反射膜的折射率大于1.6，所述第二抗反射膜的折射率小于1.55。

5.根据权利要求3所述之复合基板结构，其特征在于：所述抗反射膜是由其中一第一抗反射层邻接于所述透明基板，由其中一第二抗反射层邻接于所述类钻碳层。

6.根据权利要求3所述之复合基板结构，其特征在于：更包括一附着层，所述附着层设置于所述透明基板与所述抗反射膜之间，且所述抗反射膜是由其中一第一抗反射层邻接于所述附着层，由其中一第二抗反射层邻接于所述类钻碳层。

7.根据权利要求3所述之复合基板结构，其特征在于：更包括一疏水性层，所述疏水性层设置于所述类钻碳层相对所述透明基板的另一侧面上。

8.根据权利要求7所述之复合基板结构，其特征在于：更包括一中间层，所述中间层设置于所述类钻碳层与所述疏水性层之间。

9.根据权利要求3所述之复合基板结构，其特征在于：所述第一抗反射层的主要材质为氧化铌、氧化钛、氧化鋯,氧化鋁、氧化钽、氮氧化硅或氮化硅，所述第二抗反射层的主要材质为氧化硅或氟化镁。

10.一种具有复合基板结构的触控面板，其特征在于，包括：

一透明基板，包括第一表面及与第一表面平行的第二表面；

一类钻碳层，设置于所述透明基板上，且至少位于所述第一表面上，其中所述类钻碳层的厚度小于等于15nm；

一抗反射膜，所述抗反射膜设置于所述透明基板与所述类钻碳层之间；

一触控组件，设置于所述透明基板的第二表面下方。

11.根据权利要求10所述之触控面板，其特征在于：所述触控组件包括一感应电极层，所述感应电极层设置于所述透明基板的第二表面。