[实用新型]光刻胶剥离液制备装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种光刻胶剥离液制备装置。

背景技术

液晶面板和触摸屏等制造过程中，还需要通过多次图形掩膜照射曝光及蚀刻等工序在硅晶圆或玻璃基片上形成多层精密的微电路，形成微电路之后，进一步用光刻胶剥离液将涂覆在微电路保护区域上作为掩膜的光刻胶除去。在电容式触摸屏生产中，采用真空镀膜方式在玻璃基板上溅镀上底层ITO 镀层之后，需要采用旋涂方式在ITO 玻璃基板上多次制作光刻胶层、曝光显影及脱模工序；液晶显示装置的彩色滤光片制造过程中，利用旋转涂布、狭缝涂布或狭缝与旋转涂布等方法涂布光刻胶的过程中，不可避免地将光刻胶涂布于基板边缘或背面，这些多余的光刻胺会造成设备污染，从而增加了清洗设备的生产成本，因此必须用光刻胶剥离液去除多余光刻胶。

传统的国内生产的光刻胶剥离液一般由两种方式：

1、由于邻二氯苯具有较好的水溶性以及油溶性，采用邻二氯苯作为原料，但是其缺陷是它只能对金进行剥离，对于真铝真银剥离时，氯会对铝和银造成侵蚀，使得产品发黑变质。

2、采用苯酚作为原料易配比，但是其存在油溶性好水溶性差的缺陷，不便剥离后的后续清洗。

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种生产出的光刻胶剥离液具有油溶性好水溶性好，不会侵蚀铝银材质的光刻胶剥离液制备装置。

本实用新型的目的是这样实现的：

一种光刻胶剥离液制备装置，它包括配制罐、苯酚储罐、蒸汽槽、溶剂储罐、混合罐、乳化剂储罐、络合剂储罐、过滤装置以及成品罐，所述配制罐的顶部设置有三个进料口，三个进料口分别连接苯酚储罐、溶剂储罐以及混合罐的出料口，苯酚储罐设置于蒸汽槽内，混合罐的顶部设置有两个进料口，两个进料口分别连接乳化剂储罐以及络合剂储罐的出料口，所述配制罐的出料口通过管道连接成品罐，管道上设置过滤装置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型光刻胶剥离液制备装置由于配制罐中通过混合后的乳化剂，使得生产出的光刻胶剥离液具有油溶性好水溶性好，不会侵蚀铝银材质的优点。

附图说明

图1为本实用新型光刻胶剥离液制备装置的结构示意图。

其中：

配制罐1、苯酚储罐2、蒸汽槽3、溶剂储罐4、混合罐5、乳化剂储罐6、络合剂储罐7、过滤装置8、成品罐9。

具体实施方式

参见图1，本实用新型涉及的一种光刻胶剥离液制备装置，它包括配制罐1、苯酚储罐2、蒸汽槽3、溶剂储罐4、混合罐5、乳化剂储罐6、络合剂储罐7、过滤装置8以及成品罐9，所述配制罐1的顶部设置有三个进料口，三个进料口分别连接苯酚储罐2、溶剂储罐4以及混合罐5的出料口，苯酚储罐2设置于蒸汽槽3内，蒸汽槽3内通入蒸汽，混合罐5的顶部设置有两个进料口，两个进料口分别连接乳化剂储罐6以及络合剂储罐7的出料口，所述配制罐1的出料口通过管道连接成品罐9，管道上设置过滤装置8。过滤装置8内的滤孔孔径为0.2μm。

工作原理：

溶剂储罐内为甲苯或者二甲苯，乳化剂和络合剂现在混合罐中进行混合然后通入配制罐，苯酚通过蒸汽加热通入配制罐，甲苯或者二甲苯、苯酚以及乳化剂和络合剂的混合液在配制罐中按照比例进行配置，最后通过过滤装置过滤生成成品。该成品具有油溶性好水溶性好，不会侵蚀铝银材质的优点。