[实用新型]一种掩模板

权利要求书

1.一种掩模板，其特征在于，包含： 

第一子掩模板； 

第二子掩模板，与所述第一子掩模板交叉设置； 

所述第一子掩模板在与所述第二子掩模板交叉区域，设置有第一凹槽，所述第一凹槽能收纳第二子掩模板。 

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述第二子掩模板在与所述第一子掩模板交叉处，设置有第二凹槽，所述第二凹槽与所述第一凹槽配合，收纳所述第一子掩模板。 

3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述第一凹槽和所述第二凹槽高度之和等于所述第一子掩模板和所述第二子掩模板高度之和的二分之一。 

4.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述第一凹槽和所述第二凹槽中的的至少一个平面是不平整表面。 

5.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述第一凹槽或所述第二凹槽的截面，至少有一条边为斜线或台阶状或曲线。 

6.根据权利要求5所述的掩模板，其特征在于，所述第一凹槽或所述第二凹槽的截面形状为楔形。 

7.根据权利要求6所述的掩模板，其特征在于，所述楔形的斜边与水平边的夹角为45°-70°。 

8.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，还包含框架，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的两端固定在所述框架上。 

9.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述第一凹槽或/和所述第二凹槽的高度范围为10-60μm。 

10.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述第一凹槽的宽度范围为2-20mm或/和所述第二凹槽的宽度范围为10-30mm。 

11.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述第一凹槽或所述第二凹槽采用半刻蚀的方法制成。 

12.根据权利要求1或2所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板还包含第三子掩模板，所述第三子掩模板覆盖于所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上方。 

13.一种有机发光显示面板，包含有机层，其特征在于，所述有机层采用如权利要求1所述的掩模板蒸镀制成。