[实用新型]触控基板以及采用该触控基板的触摸屏

说明书

技术领域

本实用新型涉及触控技术领域，特别是涉及一种触控基板以及采用该触控基板的触摸屏。

背景技术

触摸屏是可接收触摸输入信号的感应式装置。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌，是极富吸引力的全新信息交互设备。触摸屏技术的发展引起了国内外信息传媒界的普遍关注，已成为光电行业异军突起的朝阳高新技术产业。

触摸屏包括触控基板及层叠于触控基板上的保护面板。传统的触控基板的制作方法通常为：

(1)直接在透明基底上形成导电层。以ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)导电层为例，需要先进行ITO镀膜，再对得到的ITO层进行图形化处理。由于导电层裸露在外，容易被划伤，进而导致导电层的导电性能降低。

(2)在透明基底上设置透明基质层，然后采用压印等方式在透明基质层上形成网格状凹槽，再于网格状凹槽中填充导电材料(例如，金属、石墨烯等)，形成网格状导电层。由于网格状导电层的一侧暴露于透明基质层外，而很多导电材料(例如，金属银)易被空气氧化。而导电材料被氧化会导致网格状导电层的导电性能降低。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种具有较好导电性能的触控基板以及采用该触控基板的触摸屏。

一种触控基板，包括：

透明基底；及

设于所述透明基底一侧的导电层，所述导电层包括固化的透明感光树脂基质及嵌入所述固化的透明感光树脂基质中的导电纳米丝线，所述导电纳米丝线交错连接形成导电网格；所述导电层被图案化而形成多条触控电极。

在其中一个实施例中，所述透明基底的厚度为0.02mm～0.5mm。

在其中一个实施例中，所述透明基底的厚度为0.05mm～0.2mm。

在其中一个实施例中，所述导电层的厚度为0.05μm～10μm。

在其中一个实施例中，所述导电层的厚度为0.08μm～2μm。

在其中一个实施例中，所述导电纳米丝线的直径为10nm～1000nm，长度为20nm～50μm，所述导电层的方阻为0.1Ω/□～200Ω/□。

在其中一个实施例中，所述导电层的方阻为10Ω/□～100Ω/□。

在其中一个实施例中，至少部分所述导电纳米丝线露出所述固化的透明感光树脂基质远离所述透明基底的一侧外。

一种触摸屏，包括：

第一触控基板，包括第一透明基底及设于所述第一透明基底一侧的第一导电层，所述第一导电层包括固化的透明感光树脂基质及嵌入所述固化的透明感光树脂基质中的导电纳米丝线，所述导电纳米丝线交错连接形成导电网格；所述第一导电层被图案化而形成多条平行间隔排列的第一触控电极，所述第一触控电极呈长条状；

第二触控基板，包括第二透明基底及设于所述第二透明基底一侧的第二导电层，所述第二导电层被图案化而形成多条平行间隔排列的第二触控电极，所述第二触控电极呈长条状，且所述第一触控电极与所述第二触控电极垂直设置；

第一透明光学胶层，设于所述第一触控基板与所述第二触控基板之间；

保护面板，设于所述第一触控基板远离所述第二触控基板的一侧或者设于所述第二触控基板远离所述第一触控基板的一侧；及

第二透明光学胶层，设于所述保护面板与所述第一触控基板或所述第二触控基板之间。

在其中一个实施例中，所述第一透明光学胶层设于所述第一导电层上，所述第二透明基底远离所述第二导电层的一侧设于所述第一透明光学胶层上；所述第二透明光学胶层设于所述第二导电层上，所述保护面板设于所述第二透明光学胶层远离所述第二导电层的一侧上；

或者，所述第一透明光学胶层设于所述第二导电层上，所述第一透明基底远离所述第一导电层的一侧设于所述第一透明光学胶层上；所述第二透明光学胶层设于所述第一导电层上，所述保护面板设于所述第二透明光学胶层远离所述第一导电层的一侧上；

或者，所述第一透明光学胶层设于所述第一导电层上，所述第二触控基板具有所述第二导电层的一侧设于所述第一透明光学胶层上；所述第二透明光学胶层设于所述第二透明基底远离所述第二导电层的一侧上，所述保护面板设于所述第二透明光学胶层远离所述第二透明基底的一侧上；

或者，所述第一透明光学胶层设于所述第一透明基底远离所述第一导电层的一侧上，所述第二透明基底远离所述第二导电层的一侧设于所述第一透明光学胶层上；所述第二透明光学胶层设于所述第二导电层上，所述保护面板设于所述第二透明光学胶层远离所述第二导电层的一侧上。