[实用新型]一种动静混合镀膜系统有效
申请号: | 201420236161.6 | 申请日: | 2014-05-09 |
公开(公告)号: | CN204265836U | 公开(公告)日: | 2015-04-15 |
发明(设计)人: | 赵军;刘钧;陈金良;许倩斐 | 申请(专利权)人: | 浙江上方电子装备有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 湖州金卫知识产权代理事务所(普通合伙) 33232 | 代理人: | 赵卫康 |
地址: | 312300 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 动静 混合 镀膜 系统 | ||
1.一种动静混合镀膜系统,其特征在于包括:
静态镀膜系统:静态镀膜系统包括静态镀膜腔室、设置在所述静态镀膜腔室内的用于对基板表面沉积镀膜的第一镀膜组件;以及设置在所述静态镀膜腔室内的可用于对基板进行往复扫描的第一传输组件;所述第一镀膜组件包括两个或两个以上平行排列的靶材,所述往复扫描的距离是零或者是任何小于相邻靶材间距的距离;
以及动态镀膜系统,包括动态镀膜腔室、设置在所述动态镀膜腔室内的用于对静态镀膜后的基板表面进行镀膜的第二镀膜组件;以及设置在所述动态镀膜腔室内的用于对静态镀膜后的基板进行连续传输的第二传输组件。
2.根据权利要求1所述的一种动静混合镀膜系统,其特征在于还包括真空切换系统和设置在所述静态镀膜系统和动态镀膜系统之间的第一缓冲系统,所述真空切换系统包括依次设置且相互连接的低真空切换室和高真空切换室。
3.根据权利要求2所述的一种动静混合镀膜系统,其特征在于:所述静态镀膜腔室和动态镀膜腔室内分别包括用于对基板表面沉积镀膜的靶材和用于对所述基板加热的加热器;所述静态镀膜腔室和动态镀膜腔室内均设置有用以满足真空要求的冷泵或分子泵;所述低真空切换室上设置有用于使所述基板进出的包括进口轨道和进口以及包括出口轨道和出口。
4.根据权利要求3所述的一种动静混合镀膜系统,其特征在于:所述第一传输组件或第二传输组件包括用于支撑基板的基板架载体,所述基板架载体边缘底部在不锈钢辊或传送带上移动,基板架载体顶部通过摩擦导向轮或无摩擦的磁导向导轨间移动。
5.根据权利要求2所述的一种动静混合镀膜系统,其特征在于:所述第一缓冲系统包括缓冲室、设置在所述缓冲室外部且与缓冲室相连通的分子泵或冷泵;所述静态镀膜系统内设置有通过传动装置对基板实现平移的平移装置。
6.根据权利要求5所述的一种动静混合镀膜系统,其特征在于:所述缓冲室设置在所有准静态镀膜腔室的终端。
7.根据权利要求2所述的一种动静混合镀膜系统,其特征在于:所述动态镀膜系统一端设置有第二缓冲系统,所述第二缓冲系统包括缓冲室、设置在所述缓冲室外部且与缓冲室相连通的分子泵以及通过传动装置对基板实现平移的平移装置。
8.根据权利要求4-7任一项所述的一种动静混合镀膜系统,其特征在于:所述基板是非柔性基板。
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