[实用新型]芯片放置装置有效
| 申请号： | 201420234762.3 | 申请日： | 2014-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN203812856U | 公开（公告）日： | 2014-09-03 |
| 发明（设计）人： | 张叙汉 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 芯片 放置 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种芯片放置装置，其特征在于，包括真空腔室以及与所述真空腔室相连的芯片支架，所述芯片支架远离所述真空腔室的表面上设置有若干个均匀排列的凹槽，所述凹槽的底部设置有吸附孔，所述吸附孔与所述真空腔室相连通。
2.如权利要求1所述的芯片放置装置，其特征在于，所述凹槽为正方形凹槽。
3.如权利要求2所述的芯片放置装置，其特征在于，所述正方形凹槽的两条对角线分别位于水平方向与竖直方向上。
4.如权利要求3所述的芯片放置装置，其特征在于，所述凹槽的底部设置有一个吸附孔。
5.如权利要求4所述的芯片放置装置，其特征在于，所述吸附孔位于所述凹槽的边缘。
6.如权利要求5所述的芯片放置装置，其特征在于，所述吸附孔位于所述凹槽竖直方向的对角线上。
7.如权利要求6所述的芯片放置装置，其特征在于，每个凹槽中吸附孔所在的位置都相同。
8.如权利要求1所述的芯片放置装置，其特征在于，所述凹槽的间距为1mm～3mm。
9.如权利要求1所述的芯片放置装置，其特征在于，所述真空腔室通过通气管道与真空抽气系统以及导气系统相连接。
10.如权利要求9所述的芯片放置装置，其特征在于，所述通气管道上设置有调节阀。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
