[实用新型]触控电极层的电连接区域结构有效

专利信息
申请号: 201420194046.7 申请日: 2014-04-21
公开(公告)号: CN203930728U 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 叶裕洲;林庭庆;张焜铭;陈仪津;刘丽萍 申请(专利权)人: 介面光电股份有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 姚垚;张荣彦
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 电极 连接 区域 结构
【权利要求书】:

1.一种触控电极层的电连接区域结构,其特征在于,包括:

多个自该触控电极层上多条电极线路延伸形成的引线部与电接部,其中多个该引线部衔接多个该电接部与多条该电极线路,以及多个该电接部形成该触控电极层与一外部电路衔接的一电连接区域;

其中,同时形成的多条该电极线路与其延伸形成的多个电接部具有相同的导电材质;该电连接区域内的每一个电接部的宽度大于所连接的每一条电极线路的宽度,以便与该外部电路热压衔接。

2.如权利要求1所述的触控电极层的电连接区域结构,其特征在于,该触控电极层的电连接区域结构形成于一触控面板的单层电极层上。

3.如权利要求1所述的触控电极层的电连接区域结构,其特征在于,该触控电极层的电连接区域结构形成于一触控面板的双层电极层上。

4.如权利要求3所述的触控电极层的电连接区域结构,其特征在于,该双层电极层上的电连接区域形成于该触控面板的相同侧。

5.如权利要求2或3所述的触控电极层的电连接区域结构,其特征在于,每一条电极线路延伸至该引线部与该电接部的部位为逐渐增宽的结构。

6.如权利要求5所述的触控电极层的电连接区域结构,其特征在于,该电接部还包括形成于导电材质上的一黑化层。

7.如权利要求6所述的触控电极层的电连接区域结构,其特征在于,该电接部还包括形成于该黑化层上的削光粗化结构。

8.如权利要求7所述的触控电极层的电连接区域结构,其特征在于,该削光粗化结构以蚀刻或加工形成,材质与该黑化层相同。

9.如权利要求7所述的触控电极层的电连接区域结构,其特征在于,该削光粗化结构为以过电解、溅镀或沉积制作,材质与该黑化层材质不同。

10.如权利要求2或3所述的触控电极层的电连接区域结构,其特征在于,每一条电极线路延伸至该引线部与该电接部的部位为实质宽度相同的结构。

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