[实用新型]一种用于光罩盒的除尘装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种半导体制备领域，特别是涉及一种用于光罩盒的除尘装置。

背景技术

在半导体制程工艺中，为了使光掩膜在制程中不被污染，通常将用于转移图案的光掩膜放置于一种盒式装置中，这种盒式装置称为光罩盒。现有技术的光罩盒是封闭的装置。为了节省存放空间，在无尘室中众多光罩盒是以一种层叠的形式摞在一起来存放。当制程需要时，将光罩盒及其内部的光掩膜一同放入机台设备中，处于机台中的光罩盒在机台的控制下被打开，其内部的光掩膜被机台自动取出运行。

而现有技术中，众多所述光罩盒往往由于不断的来回被搬取，其底部长期会积累或沾有污染物或微粒，这些微粒或污染物粘在光罩盒底部连同光掩膜一起放入机台运行的过程中，将会进一步污染光掩膜，被污染过的光掩膜在后续制程工艺中会造成产品合格率的下降。目前由于上述问题导致的半导体制程良率的下降还没有较有效的解决办法。因此有必要提出一种用于光罩盒的除尘装置。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种用于光罩盒的除尘装置，用于解决现有技术中由于光罩盒底部的污染物或微粒在光掩膜制作过程中给所述光掩膜带来污染以及进一步影响半导体制程良率的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种用于光罩盒的除尘装置，所述用于光罩盒的除尘装置至少包括：

上表面设有开口且侧壁设有至少一个通槽的外罩；

位于所述外罩底部的至少三个支撑柱；

上表面固定有粘性垫并套设在所述支撑柱上上下滑动的基板；

所述支撑柱位于所述基板下方部分穿套有弹性部件；

所述基板、支撑柱、弹性部件及粘性垫均置于所述外罩内部；

所述外罩上表面的开口的垂直投影位于所述粘性垫上表面；

穿过所述通槽并伸出所述外罩并与所述基板连接的开合器；所述开合器在所述通槽中上下移动；

卡持于所述开口的光罩盒；所述光罩盒具有底座及位于底座上方的卡口，其底座嵌入所述外罩的开口并与所述粘性垫表面接触；所述卡口纵截面的宽度大于所述开口纵截面的宽度；所述基板上下移动的距离大于等于所述光罩盒上下移动的距离。

作为本实用新型的用于光罩盒的除尘装置的一种优选方案，所述支撑柱围绕所述基板中心呈均匀分布。

作为本实用新型的用于光罩盒的除尘装置的一种优选方案，所述支撑柱为四个。

作为本实用新型的用于光罩盒的除尘装置的一种优选方案，所述粘性垫的材料为防静电胶带。

作为本实用新型的用于光罩盒的除尘装置的一种优选方案，所述穿套于所述支撑柱的弹性部件底部固定于所述支撑柱底部。

作为本实用新型的用于光罩盒的除尘装置的一种优选方案，所述支撑柱底部固定于所述外罩底部。

作为本实用新型的用于光罩盒的除尘装置的一种优选方案，所述外罩的开口垂直投影位于所述粘性垫表面的中部。

作为本实用新型的用于光罩盒的除尘装置的一种优选方案，所述弹性部件为弹簧，所述弹簧的自由长度均相等。

作为本实用新型的用于光罩盒的除尘装置的一种优选方案，所述弹性部件的弹性系数均相等。

作为本实用新型的用于光罩盒的除尘装置的一种优选方案，所述通槽及穿过该通槽的开合器分别有两个。

作为本实用新型的用于光罩盒的除尘装置的一种优选方案，所述两个通槽关于所述外罩中心呈对称分布。

如上所述，本实用新型的用于光罩盒的除尘装置，具有以下有益效果：通过将内部放置有光掩膜的光罩盒置于一种除尘装置中，并将所述光罩盒底部的微粒或污染物粘连在所述粘性垫上表面，可以有效地去除所述光罩盒底面的微粒以及污染物，可有效提高半导体产品的制程良率。

附图说明

图1为本实用新型的用于光罩盒的除尘装置剖面结构示意图。

图2为本实用新型的装置外罩包含通槽部分的剖面示意图。

图3为图1去掉光罩盒的剖面示意图。

元件标号说明

10    基板

11    支撑柱

12    粘性垫

13    弹簧

14    外罩

15    开合器

16    光罩盒

17    通槽

18    开口

具体实施方式