[实用新型]一种基板检测修复系统

权利要求书

1.一种基板检测修复系统，其特征在于，包括： 

控制装置，根据接收的基板上的有效电路形成前的图像获取基板上的光刻胶残留信息，并控制去除所述基板上除有效电路以外的区域残留的光刻胶； 

光学检测装置，信号连接所述控制装置，以获取基板上的有效电路形成前的图像，并将所述图像反馈给所述控制装置； 

光刻胶去除装置，信号连接所述控制装置，在所述控制装置的控制下去除所述残留的光刻胶。 

2.如权利要求1所述的基板检测修复系统，其特征在于，所述光学检测装置为相机或图像扫描机。 

3.如权利要求1或2所述的基板检测修复系统，其特征在于，所述光刻胶去除装置包括： 

曝光装置，信号连接所述控制装置，在所述控制装置的控制下对所述残留的光刻胶进行曝光； 

显影装置，信号连接所述控制装置，在所述控制装置的控制下对曝光后的所述残留的光刻胶进行显影，以去除所述残留的光刻胶； 

清洗装置，信号连接所述控制装置，在所述控制装置的控制下对显影后所述基板上显影后的区域进行清洗； 

干燥装置，信号连接所述控制装置，在所述控制装置的控制下对所述基板上进行显影和清洗后的区域进行干燥。 

4.如权利要求3所述的基板检测修复系统，其特征在于，所述曝光装置为紫外线曝光装置或激光曝光装置。 

5.如权利要求4所述的基板检测修复系统，其特征在于，所述紫外线曝光装置包括：机壳，设置于所述机壳内的紫外光发射器，以及与所述紫外光发射器相对、用于调节紫外光光斑大小的光斑调节器。 

6.如权利要求3所述的基板检测修复系统，其特征在于，所述显影装置和所述清洗装置为一体结构，包括：壳体，设置于所述壳体内的显影液存储罐和清洗液存储罐，设置于所述壳体底部的显影液滴嘴和清洗液滴嘴，且所述显影液滴嘴通过显影液导管与所述显影液存储罐连通，所述清洗液滴嘴通过清洗液导管与所述清洗液存储罐连通，以及设置于所述显影液导管上的显影液控制阀，设置于所述清洗液导管上的清洗液控制阀，且所述显影液控制阀和所述清洗液控制阀分别与所述控制装置信号连接。 

7.如权利要求6所述的检测修复系统，其特征在于，所述干燥装置包括：用于吸取所述基板上的显影液和清洗液的吸嘴，通过吸嘴导管与所述吸嘴连通、用于存储吸入的显影液和清洗液的液体存储罐，以及设置于所述吸嘴导管上的吸嘴控制阀，且所述吸嘴控制阀与所述控制装置信号连接。 

8.如权利要求7所述的基板检测修复系统，其特征在于，所述吸嘴的中间部分向内凹陷。 

9.如权利要求3所述的基板检测修复系统，其特征在于，还包括：承载所述基板的承载台，且所述承载台与所述控制装置信号连接；在进行检测和修复工作时，所述控制装置控制所述承载台顺次移到所述光学检测装置、曝光装置、显影装置、清洗装置和干燥装置的下方，以便于所述光学检测装置、曝光装置、显影装置、清洗装置和干燥装置对放置于所述承载台上的有效电路形成前的基板进行图像采集，对基板上除有效电路以外的区域残留的光刻胶进行曝光、显影、清洗和干燥。