[发明专利]显示面板及其制造方法在审
| 申请号: | 201410775193.8 | 申请日: | 2014-12-15 |
| 公开(公告)号: | CN105785630A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
| 发明(设计)人: | 高克毅;李建兴 | 申请(专利权)人: | 群创光电股份有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 贾磊 |
| 地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 面板 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明关于一种显示面板及其制造方法,特别关于一种显示装置的显示面板及其 制造方法。
背景技术
随着科技的进步,显示装置已经广泛的被运用在各种领域,尤其是液晶显示装置 或有机发光二极管显示装置,因具有体型轻薄、低功率消耗及无辐射等优越特性,已 经渐渐地取代传统阴极射线管显示装置,而应用至许多种类的电子产品中,例如移动 电话、可携式多媒体装置、笔记本电脑或电视等等。
以液晶显示装置为例,现有一种液晶显示装置包含一液晶显示面板(LCDPanel) 以及一背光模块(BacklightModule),两者相对设置。液晶显示面板主要包含一彩色 滤光基板、一薄膜晶体管基板以及一夹设于两基板之间的液晶层。其中,彩色滤光基 板及薄膜晶体管基板与液晶层可形成多个阵列配置的像素。而背光模块可发出光线穿 过液晶显示面板,并经由液晶显示面板的各像素显示色彩而形成一影像。
于现有彩色滤光基板的制作技术中,色层(即彩色滤光层)一般是经过涂布、曝 光、显影及烘烤等步骤以完成其图案(pattern)。但是,现有技术中是以接近全面涂 布色层材料的方式来设置,故有一半以上的材料均被后来的显影工艺的显影剂去除 掉,造成色层材料的浪费与成本的增加。另外,由于色层材料会留在基板上,于上述 的工艺中,也容易因工艺或设备的因素造成材料厚度差异而产生颜色不均的现象而影 响良率,尤其是在高解析度(高ppi)的产品更加严重。
为解决材料浪费与成本增加等问题,业界发展出喷射注入色层(ink-jet)的技术, 但是,这种技术所喷出的色层材料也会因与黑色矩阵(blackmatrix,BM)之间的亲、 疏水性差别或吐出量不均,使得烘烤固化定型后造成材料厚度差异而产生颜色不均; 又或者,为了改善吐出量不均而提高色层材料的吐出量,但提高材料的吐出量也容易 导致色层混色的问题。
因此,如何提供一种显示面板及其制造方法,可改善现有技术中,色层材料的厚 度差异所造成的颜色不均现象,已成为重要课题之一。
发明内容
本发明的目的为提供一种显示面板及其制造方法,用以改善现有技术中,色层材 料的厚度差异所造成的颜色不均现象。
本发明的技术方案是提供一种显示面板,包括一第一基板、一第二基板以及一显 示介质层。第一基板具有一基材、多个遮光部及多个滤光部,这些遮光部与这些滤光 部设置于基材的一第一表面上,这些遮光部与这些滤光部为间隔设置,这些滤光部的 其中之一的厚度小于相邻的这些遮光部的最大厚度。第二基板与第一基板相对而设。 显示介质层设置于第一基板与第二基板之间。
本发明还提供一种显示面板的制造方法,包括于一基材的一第一表面上形成多个 遮光部;于第一表面上形成多个滤光部,且两相邻这些遮光部之间具有一个滤光部; 以一光线由与第一表面相对的一第二表面照射基材,以进行一曝光工艺;进行一显影 工艺,以使滤光部的厚度小于相邻的这些遮光部的最大厚度;以及进行一固化工艺, 以形成一第一基板。
在一实施例中,这些遮光部的其中之一远离第一表面的一侧具有至少一凹槽,凹 槽的截面形状为多边形或弧形。
在一实施例中,这些遮光部的其中之一被区分为一第一部及一第二部,第一部接 触第一表面,第二部连接于第一部远离第一表面的一侧。
在一实施例中,于与基材平行的一横截面上,第一部具有最大的一第一宽度,第 一部与第二部的连接处具有一第二宽度,第二部具有最大的一第三宽度,第一宽度大 于第二宽度,且第三宽度大于第二宽度。
在一实施例中,这些滤光部的其中之一完全覆盖第一部的侧壁及部分的第二部的 侧壁,且滤光部覆盖第二部的侧壁的比例为第二部全部侧壁比例的1%至90%之间。
在一实施例中,这些滤光部的其中之一的厚度介于相邻的这些遮光部的最大厚度 的50%~95%之间。
在一实施例中,制造方法还包括:将第一基板与一第二基板相对而设,并将一显 示介质层设置于第一基板与第二基板之间以形成显示面板。
在一实施例中,于第一表面上形成一层遮光层的步骤中,还通过一半调式掩膜、 或一多灰阶掩膜或一精密狭缝掩膜于这些遮光部上形成至少一凹槽。
在一实施例中,光线为紫外线或该光线的波长介于365纳米到435纳米之间。
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