[发明专利]一种超平滑釉及其制备方法在审
申请号: | 201410743660.9 | 申请日: | 2014-12-09 |
公开(公告)号: | CN104892031A | 公开(公告)日: | 2015-09-09 |
发明(设计)人: | 黄朝阳 | 申请(专利权)人: | 大汉国际控股有限公司 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
代理公司: | 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 | 代理人: | 张志醒 |
地址: | 中国香港九龙旺角*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 平滑 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种釉料及其制备方法,具体涉及一种超平滑釉及其制备方法,属于陶瓷加工技术领域。
背景技术
随着人们生活水平的提高,陶瓷产品越来越多地应用于人们的日常生活之中;随着人们保健意识的增强,人们对工作和家庭环境卫生日益重视。我国是世界上最大的建筑与卫生陶瓷生产国,也是世界上最大的建卫陶瓷消费市场,其中,表面上釉的陶瓷产品,由于其表面一层细腻光滑的釉面,不但具有良好的装饰效果,而且干净、实用、易清洗,受到人们的普遍欢迎。
但国内产品的质量水平与国外的产品尚有较大差距,大部分高档产品还是依赖进口,总体经济效益较低。其与国外产品的主要差距是釉面质量不高,存在微小的针孔和凹凸等缺陷。在使用过程中,污垢、细菌等易沉积在缺陷处,给微生物提供养料,造成大量繁殖,对人们的身体健康构成危害,并且影响美观、增加了清洗难度。降低釉面粗糙度,是解决这一问题的根本方法,也是目前陶瓷洁具生产企业和科研工作者研究的热点之一。
20世纪90年代开始,欧、美、日等发达国家开始对提高陶瓷釉的平滑度进行研究,并申请了一系列专利。国内关于超平滑釉陶瓷的研究起步较晚,一些陶瓷生产企业虽推出了相应的超平滑陶瓷产品,但釉面粗糙度相对国外的产品还是较大。本发明以常用的工业原料,采用常规烧成方法制备超平滑陶瓷,做到防止液相析晶,提高坯体的强度、白度以及釉面光泽度,在不提高生产成本的前提下,使陶瓷釉面的粗糙度降低,达到釉面致密、光滑、平整,有效杜绝污垢及细菌的粘附,即使有污垢,也能被轻松的冲洗掉,彻底杜绝了污垢的粘附和黑斑的产生,具有良好的抗污染性能,使陶瓷在长时间内保持光亮如新,从而减少清洗次数,减轻人们的体力劳动,同时也不会给环境造成污染。
中国发明“一种自洁抗菌陶瓷釉及其制备方法与陶瓷产品”申请号CN200910040630.0公开的一种具有自洁抗菌功能的陶瓷釉 ,制得的陶瓷釉面在自洁抗菌的同时,由于釉面平整度高,光洁度好,触摸感觉达到超平滑釉的效果,但不是真正意义上的超平滑釉。中国发明“一种超平釉配方以及烧成方法”申请号CN201310076559.8公开的一种超平釉烧成工艺复杂,成本过高。
发明内容
本发明的目的是提供一种超平滑釉,该釉料在不提高生产成本的前提下,使陶瓷釉面的粗糙度降低,达到陶瓷在长时间内保持光亮如新的效果。
为了解决上述问题,本发明所采用的技术方案是:
一种超平滑釉,各组分的重量份为:
钾长石 18~68份、石英20~98份、高岭土10~50份、方解石20~50份、白云石5~40份、硼酸5~40份、氧化铝9~17份、氧化硅5~15份、氧化钙1~5份、氧化钾5~10份、氧化钠5~10份、氧化锌5~17份、氧化钡1~5份。
钾长石 18~38份、石英20~68份、高岭土10~30份、方解石20~40份、白云石5~30份、硼酸5~30份、氧化铝9~12份、氧化硅5~12份、氧化钙1~3份、氧化钾5~8份、氧化钠5~8份、氧化锌5~12份、氧化钡1~3份。
钾长石 28~68份、石英40~98份、高岭20~50份、方解石30~50份、白云石15~40份、硼酸15~40份、氧化铝10~17份、氧化硅7~15份、氧化钙2~5份、氧化钾6~10份、氧化钠6~10份、氧化锌7~17份、氧化钡2~5份。
钾长石 20~60份、石英25~90份、高岭土15~45份、方解石25~45份、白云石10~35份、硼酸10~35份、氧化铝10~15份、氧化硅8~12份、氧化钙2~4份、氧化钾7~9份、氧化钠7~9份、氧化锌8~15份、氧化钡2~4份。
钾长石 30~60份、石英30~80份、高岭土25~35份、方解石35~50份、白云石20~35份、硼酸20~35份、氧化铝12~15份、氧化硅7~10份、氧化钙3~4份、氧化钾6~9份、氧化钠6~9份、氧化锌9~12份、氧化钡3~4份。
钾长石 38份、石英75份、高岭土45份、方解石35份、白云石15份、硼酸30份、氧化铝12份、氧化硅8份、氧化钙2份、氧化钾7份、氧化钠8份、氧化锌10份、氧化钡2份。
钾长石55份、石英35份、高岭土30份、方解石45份、白云石35份、硼酸15份、氧化铝16份、氧化硅12份、氧化钙4份、氧化钾8份、氧化钠6份、氧化锌15份、氧化钡4份。
本发明的另一个目的是提供一种超平滑釉的制备方法,包括如下步骤:
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