[发明专利]一种超低损耗反射镜镀膜基板节瘤缺陷预处理方法无效
| 申请号: | 201410717405.7 | 申请日: | 2014-12-02 |
| 公开(公告)号: | CN104498887A | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
| 发明(设计)人: | 刘华松;姜承慧;宗杰;刘丹丹;季一勤;王利栓;姜玉刚;赵馨 | 申请(专利权)人: | 中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所 |
| 主分类号: | C23C14/46 | 分类号: | C23C14/46;C23C14/02 |
| 代理公司: | 中国兵器工业集团公司专利中心11011 | 代理人: | 刘东升 |
| 地址: | 300308天津市东*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 损耗 反射 镀膜 基板节瘤 缺陷 预处理 方法 | ||
1.一种超低损耗反射镜镀膜基板节瘤缺陷预处理方法,其特征在于,其包括如下步骤:
步骤S1:配置稀盐酸溶液,将镀膜基片放置于稀盐酸溶液中加热至沸腾,清洗一定时间后,用不低于90℃的去离子水超声清洗镀膜基板;
步骤S2:配置过氧化铵溶液,将镀膜基片放置于过氧化铵溶液中加热至沸腾,清洗一定时间后,用不低于90℃的去离子水超声清洗镀膜基板;
步骤S3:配置过氧化氢溶液,将镀膜基片放置于过氧化氢溶液中加热至沸腾,清洗一定时间后,用不低于90℃的去离子水超声清洗镀膜基板;
步骤S4:用不低于90℃的去离子水刷洗基片表面,高速离心干燥基片;
步骤S5:将镀膜基板成盘放置在离子束溅射镀膜机内,用离子束对基板表面进行处理;
步骤S6:用不低于90℃的去离子水刷洗基片表面,高速离心干燥基片,完成整个镀膜基板的清洗。
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