[发明专利]梳形光栅的制备方法在审
申请号: | 201410691930.6 | 申请日: | 2014-11-25 |
公开(公告)号: | CN104459857A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 席洪柱;温旭杰;张建成;余峰;杨路路;李荣;贺兆昌 | 申请(专利权)人: | 安徽华东光电技术研究所 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 孙向民;董彬 |
地址: | 241000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光栅 制备 方法 | ||
1.一种梳形光栅的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
(1)对金属待加工件表面进行抛光,得到初制件;
(2)在初制件的一个侧面上等间距地加工出多个凹槽,得到梳形光栅初坯A1;
(3)将梳形光栅初坯A1在电解液中进行电镀,得到梳形光栅毛坯A2,所述梳形光栅毛坯A2的凹槽的槽宽等于预设槽宽,所述梳形光栅毛坯A2的凹槽的槽深等于预设槽深;
(4)将梳形光栅毛坯A2进行打磨,得到梳形光栅。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中的加工方法为线切割、电火花切割和铣切割中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中梳形光栅初坯A1的槽宽不小于预设槽宽。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中h≥h0;
h为梳形光栅初坯A1的槽深,h0为所述预设槽深。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中所述电镀层的厚度为
d为所述梳形光栅初坯A1的槽宽,d0为所述预设槽宽,η为预设值。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,在步骤(3)中,电镀的方法包括以下公式:
T为电镀时间;n为金属离子被还原成金属单质所需要的电子数;s为梳形光栅初坯A1的表面积;d为梳形光栅初坯A1表面需要电镀的镀层厚度;ρ为金属单质的密度;Q为1mol电子的电量,为常量;M为金属单质的相对分子质量;I为电流密度;η为电流效率。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中所述电解液中包括金属待加工件中的至少一种金属盐。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中电镀温度为15-50℃。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(4)还包括:将梳形光栅毛坯A2在打磨后通过水、酒精和有机溶剂进行清洗。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,将梳形光栅毛坯A2在打磨后顺次通过水、酒精、有机溶剂和水进行清洗。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽华东光电技术研究所,未经安徽华东光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410691930.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。