[发明专利]梳形光栅的制备方法在审

专利信息
申请号: 201410691930.6 申请日: 2014-11-25
公开(公告)号: CN104459857A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 席洪柱;温旭杰;张建成;余峰;杨路路;李荣;贺兆昌 申请(专利权)人: 安徽华东光电技术研究所
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 孙向民;董彬
地址: 241000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 光栅 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种梳形光栅的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

(1)对金属待加工件表面进行抛光,得到初制件;

(2)在初制件的一个侧面上等间距地加工出多个凹槽,得到梳形光栅初坯A1;

(3)将梳形光栅初坯A1在电解液中进行电镀,得到梳形光栅毛坯A2,所述梳形光栅毛坯A2的凹槽的槽宽等于预设槽宽,所述梳形光栅毛坯A2的凹槽的槽深等于预设槽深;

(4)将梳形光栅毛坯A2进行打磨,得到梳形光栅。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中的加工方法为线切割、电火花切割和铣切割中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中梳形光栅初坯A1的槽宽不小于预设槽宽。

4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中h≥h0

h为梳形光栅初坯A1的槽深,h0为所述预设槽深。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中所述电镀层的厚度为

d为所述梳形光栅初坯A1的槽宽,d0为所述预设槽宽,η为预设值。

6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,在步骤(3)中,电镀的方法包括以下公式:

T=n×s×d×ρ×QM×I×η;]]>其中,

T为电镀时间;n为金属离子被还原成金属单质所需要的电子数;s为梳形光栅初坯A1的表面积;d为梳形光栅初坯A1表面需要电镀的镀层厚度;ρ为金属单质的密度;Q为1mol电子的电量,为常量;M为金属单质的相对分子质量;I为电流密度;η为电流效率。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中所述电解液中包括金属待加工件中的至少一种金属盐。

8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中电镀温度为15-50℃。

9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(4)还包括:将梳形光栅毛坯A2在打磨后通过水、酒精和有机溶剂进行清洗。

10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,将梳形光栅毛坯A2在打磨后顺次通过水、酒精、有机溶剂和水进行清洗。

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