[发明专利]光学薄片以及发光装置在审

专利信息
申请号: 201410688197.2 申请日: 2014-11-25
公开(公告)号: CN104714263A 公开(公告)日: 2015-06-17
发明(设计)人: 平泽拓;稻田安寿;桥谷享;中村嘉孝 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 韩聪
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 薄片 以及 发光 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种具有光扩散层的光学薄片以及发光装置,该光扩散层利用衍射将入射光的至少一部分扩散。

背景技术

一般来讲,当光从高折射率的介质向低折射率的介质传播时,以超过临界角的入射角度入射的光会引起全反射。因此,在例如有机电致发光等的发光装置中有由于光会在层叠的材料的界面全反射而导致光被封闭在发光装置内部的这一问题。因此,就提出了一种组装了用于将以超过临界角的入射角度入射的光取出到外部的光学薄片的发光装置的方案。

例如,专利文献1公开了一种通过将微小的凹凸结构随机配置而形成的光学薄片。通过将这种光学薄片组装到发光装置中,能够利用光的衍射现象使光扩散,由此将以超过临界角的入射角度入射到光学薄片上的光的至少一部分扩散取出到外部。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:JP专利第4346680号公报

专利文献2:JP特开2011-118327号公报

专利文献3:JP特开2011-118328号公报

专利文献4:JP专利第4822243号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

本发明提供一种能够进一步提高光取出效率的光学薄片、发光装置、光学薄片的制造方法以及发光装置的制造方法。

解决技术课题的手段

本发明的一个实施方式所涉及的光学薄片具有光扩散层,该光扩散层利用衍射将入射的光的至少一部分扩散,上述光扩散层具有多个第一微小区域以及多个第二微小区域,上述多个第一微小区域分别为凸部;上述多个第二微小区域分别为凹部,上述凸部以及上述凹部的至少一方为锥形,当将向上述光扩散层入射的光的中心波长设为λ,并将上述光扩散层在光的射出侧相接的层的折射率设为n时,由上述多个第一微小区域以及上述多个第二微小区域形成的图案的空间频率分量,在0.068/(λ×n)以上并且2.8/(λ×n)以下的空间频率中具有最大峰值。另外,概括性或具体性的实施方式,既可以通过装置、系统或方法来实现,也可以通过部件、装置、系统或方法的任意组合来实现。

发明效果

根据本发明的光学薄片,能够将以超过临界角的入射角度入射到光扩散层的光有效地取出到外部,能够提高光取出效率。

附图说明

图1是表示实施方式1所涉及的发光装置的剖视图。

图2A是表示实施方式1所涉及的光学薄片的俯视图。

图2B是表示构成图2A的光学薄片的第一单位结构体以及第二单位结构体的俯视图。

图2C是由图2A中的A-A线切断的光学薄片的剖视图。

图2D是在使用纳米压印技术制造光学薄片的情况下的光学薄片的剖视图。

图2E是表示在将光扩散层形成在透明基板的表面上的情况下的发光装置的一部分的剖视图。

图3是将图2A的光扩散层中的图案进行傅里叶变换,并表示空间频率分量的振幅的图。

图4A表示在光以θx=0°的入射角度入射到光扩散层的情况下,通过计算求出从光扩散层射出的光的扩散图案的结果的。

图4B表示在光以θx=20°的入射角度入射到光扩散层的情况下,通过计算求出从光扩散层射出的光的扩散图案的结果。

图4C表示在光以θx=40°的入射角度入射到光扩散层的情况下,通过计算求出从光扩散层射出的光的扩散图案的结果。

图5表示通过将光扩散层中的图案进行傅里叶变换而获得的空间频率中的某一方位上的一维分布。

图6表示对光扩散层中的光透过率的入射角度依存性进行计算的结果。

图7表示对介由光扩散层射出到空气层的光的全部发光量对第一微小区域以及第二微小区域各自的单位大小w的依存性进行计算的结果。

图8A表示对介由实施方式1的光扩散层射出到空气层的光的全部发光量的射出角度分布进行计算的结果。

图8B表示对介由本实施方式未涉及的光学薄片射出到空气层的光的全部发光量的射出角度分布进行计算的结果。

图9是表示在将第一单位结构体以及第二单位结构体的出现概率分别设为75%以及25%的情况下的光学薄片的俯视图。

图10是将图9的光扩散层中的图案进行傅里叶变换,表示空间频率分量的振幅的图。

图11A表示在第一单位结构体的出现概率为100%的情况下,通过将图案进行傅里叶变换而获得的空间频率中的某一方位上的一维分布。

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