[发明专利]一种液刀清洗装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示面板制造技术领域，特别是涉及一种液刀清洗装置。

背景技术

在平板显示装置中，TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器，简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和无辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。随着玻璃基板的尺寸大型化，为保证产品的合格率，每一步制造工艺都面临着更大的挑战。

湿法刻蚀是显示面板制造过程中的重要一环，其利用刻蚀液刻蚀掉基板表面未覆盖光刻胶的金属区域，从而形成具有一定图案的金属层。如图1所示，湿法刻蚀后对基板进行清洗的设备包括液刀清洗装置100和喷淋装置200。在液刀清洗装置100中，液刀14的刀口为线状，可喷射出均匀的去离子水幕，从而对传送滚轮10上的基板13进行快速冲洗，去掉基板13上残留的刻蚀液。喷淋装置200设置在液刀清洗装置100的下游，包含多个喷头201，喷头201喷洒出的去离子水可对传送滚轮10上的基板进行淋洗，从而将基板进一步清洗干净。

如图1所示，现有的液刀清洗装置100主要包括：支撑板24、L形防溅罩11和液刀14，其中：支撑板24与清洗腔室的侧壁16固定连接，防溅罩11的顶板与支撑板24固定连接，液刀14设置在防溅罩11的下方，刀口朝向传送滚轮10。

上述现有技术存在的缺陷在于，液刀清洗装置100在工作时，水汽极易在防溅罩11的下方以及液刀14的G角处凝结成液滴，液滴滴落在基板13上会对残留的刻蚀液进行轻度稀释，从而使刻蚀液与基板再次发生刻蚀反应。这在一定程度上影响了基板的均一性，进而影响到产品品质。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种液刀清洗装置，以提高基板的均一性，进而提高产品品质。

本发明实施例所提供的液刀清洗装置，包括：

防溅罩，固定于清洗腔室的侧壁；

液刀，位于防溅罩的下方；

斜挡板，位于防溅罩和液刀之间，所述斜挡板的较高侧与清洗腔室的侧壁固定连接，所述斜挡板的较低侧与液刀的刀口顶部固定连接。

在本发明实施例的技术方案中，斜挡板可将液刀和传送滚轮上的基板与大部分水汽隔离，滴落在斜挡板上的液滴可沿斜面流下，而不会滴落在液刀尚未冲洗的基板上。相比于现有技术，本方案可大大减少液滴对基板均一性的影响，提高了产品品质。

优选的，所述斜挡板包括至少两节平板单元；相邻两节平板单元的上表面交汇处设置有竖挡板，所述竖挡板与较高一节的平板单元形成第一导流槽。第一导流槽可快速地将汇聚的去离子水导向液刀清洗装置的两侧。

优选的，所述斜挡板的较高侧与清洗腔室的侧壁之间具有第一密封垫。第一密封垫可以防止液滴从斜挡板与清洗腔室侧壁的缝隙处流下，从而防止液滴滴落在基板上，对基板的均一性产生不良影响。

优选的，所述斜挡板的较低侧与液刀的刀口顶部之间具有第二密封垫，所述斜挡板、第二密封垫和液刀的刀口顶部之间形成第二导流槽。该第二导流槽可快速地将斜挡板下表面汇聚的去离子水导向液刀清洗装置的两侧。

较佳的，液刀清洗装置还包括：与清洗腔室的侧壁固定连接的支撑板，所述支撑板的上表面具有第三导流槽；所述防溅罩的顶板与所述支撑板的上表面固定连接。当防溅罩与支撑板之间的缝隙处渗入去离子水时，可快速的通过该第三导流槽排向液刀清洗装置的两侧。

优选的，所述液刀的刀口朝向相邻两个传送滚轮之间的间隙。这样，当传送滚轮上未放置基板时，液刀刀口喷出的去离子水幕不会冲击传送滚轮，从而减少了液体回溅，有效减少了水汽的产生。

较佳的，液刀清洗装置还包括：位于液刀的刀口下方的竖挡板，所述竖挡板的高度低于传送滚轮的传送平面。在对基板进行清洗之前，需要先使液刀工作一段时间，使去离子水幕喷出均匀。设置竖挡板可有效减少液体的回溅，从而减少水汽的产生。

较佳的，液刀清洗装置还包括：位于斜挡板下方、传送滚轮上方的吹散管；以及向吹散管中鼓入气流的鼓风装置。鼓风装置可以在传送滚轮上未放置基板时向吹散管中鼓入干冷气流，从而使吹散管将斜挡板下方的水汽吹散，减少液滴的凝结。

更佳的，所述吹散管的管壁分布有多个出气孔。鼓入吹散管中的干冷气流可以从多个出气孔吹出，从而可以从多个方向将斜挡板下方的水汽吹散，吹散效果更佳。

附图说明

图1为现有清洗设备结构示意图；

图2为包含本发明一种实施例的液刀清洗装置的清洗设备结构示意图；