[发明专利]化学强化玻璃基板的加工方法有效
| 申请号： | 201410670258.2 | 申请日： | 2014-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN104649580B | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 植松照博 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 强化 玻璃 加工 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学强化玻璃基板的加工方法，所述化学强化玻璃基板的维氏硬度为500kgf/mm2以上，
该加工方法包括：
涂布膜形成工序，在所述化学强化玻璃基板形成由感光性树脂组合物形成的涂布膜；
曝光工序，位置选择性地对所述涂布膜进行曝光；
蚀刻掩模形成工序，对被曝光后的所述涂布膜进行显影，得到图案化为所需形状的蚀刻掩模；
蚀刻工序，对具备所述蚀刻掩模的所述化学强化玻璃基板进行蚀刻；以及
剥离工序，将所述蚀刻掩模从所述化学强化玻璃基板的表面剥离，
其中，所述化学强化玻璃基板的被实施蚀刻的面的、从表面至深度10μm的表层的钠和钾的元素成分比率总和为13质量％以下，从表面至深度10μm的表层的钠的元素成分比率为3质量％以下。
2.根据权利要求1所述的化学强化玻璃基板的加工方法，其中，所述感光性树脂组合物包含具有羟基或羧基的高分子化合物。
3.根据权利要求1或2所述的化学强化玻璃基板的加工方法，其中，在所述剥离工序中使用包含碱性化合物和有机溶剂的剥离液。
4.根据权利要求3所述的化学强化玻璃基板的加工方法，其中，所述碱性化合物为含氮碱性有机化合物。
5.根据权利要求1或2所述的化学强化玻璃基板的加工方法，其中，所述化学强化玻璃基板在被实施蚀刻的面上具有金属布线，对玻璃露出的部分进行所述蚀刻工序中的蚀刻。
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