[发明专利]煎烤装置

说明书

本发明公开了一种煎烤装置，煎烤装置包括：下烤盘、上烤盘以及发热管，上烤盘可转动地连接至下烤盘，且上烤盘与下烤盘之间限定出煎烤腔室，上烤盘和下烤盘在闭合状态时煎烤腔室的高度为10‑15mm，上烤盘和下烤盘均为方形烤盘，发热管设在上烤盘和下烤盘的至少一个内且盘绕设置，发热管的中心线与其所在的上烤盘和/或下烤盘的内侧壁之间的最近距离不大于50mm。根据本发明的煎烤装置，通过将煎烤腔室的高度限定在10‑15mm的范围内，可以提高食物上表面的煎烤效果，且通过将发热管与相应烤盘内侧壁之间的距离限定在50mm以内，可以减小烤盘的中心与边缘的温差，提高烤盘边缘处食物的煎烤效果，使得烤盘整体受热均匀，从而使得食物整体可以均匀地受热、成熟和上色。

技术领域

本发明涉及煎烤设备领域，尤其是涉及一种煎烤装置。

背景技术

相关技术中指出，具有方形烤盘的煎烤机在煎烤的过程中，烤盘的温度场常常分布不均，致使位于烤盘不同位置处的食物产生成熟度不一致的问题，例如，烤盘中心的位置温度偏高，烤盘边缘的位置温度偏低，使得位于烤盘中心处的食物的熟透程度与位于烤盘边缘处的食物的熟透程度不一致，致使烤盘边缘位置处的食物常出现成熟较慢、成熟不均匀、或者不熟的问题，从而延长了煎烤时间，而且，食物的上表面也常常出现不熟或者成熟不均匀的现象，尤其是在烙制薄饼的过程中，薄饼的上表面容易发白，不易上色，煎烤效果不好。另外，在煎烤的过程中，常常出现水分损失较大的问题，导致煎烤出的食物发干、口感偏硬。综上所述，相关技术中的煎烤机存在食物受热不均、煎烤时间较长、煎烤效果不好等问题。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明在于提出一种煎烤装置，所述煎烤装置的煎烤效果好。

根据本发明的煎烤装置，包括：下烤盘；上烤盘，所述上烤盘可转动地连接至所述下烤盘，且所述上烤盘与所述下烤盘之间限定出煎烤腔室，所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述煎烤腔室的高度为10-15mm，所述上烤盘和所述下烤盘均为方形烤盘；发热管，所述发热管设在所述上烤盘和所述下烤盘的至少一个内且盘绕设置，所述发热管的中心线与其所在的所述上烤盘和/或下烤盘的内侧壁之间的最近距离不大于50mm。

根据本发明的煎烤装置，通过将煎烤腔室的高度限定在10-15mm的范围内，从而可以提高食物上表面的煎烤效果，使得食物整体可以均匀地受热、成熟和上色，且通过将发热管的中心线与相应烤盘内侧壁之间的距离限定在50mm以内，从而可以提高置于烤盘边缘处的食物的煎烤效果，且可以减小烤盘的中心与边缘的温差，使得烤盘整体受热均匀，提高食物整体的煎烤效果。

具体地，所述上烤盘和所述下烤盘均为大体矩形烤盘。

具体地，所述发热管在其所在的所述上烤盘和/或下烤盘内盘绕成外轮廓为大体矩形的形状。

具体地，所述发热管的中心线与其所在的所述上烤盘和/或下烤盘的相对两个内侧壁之间的距离相等。

具体地，所述发热管的中心线与其所在的所述上烤盘和/或下烤盘的四个内侧壁之间的距离均相等。

具体地，在所述上烤盘和所述下烤盘内均设置所述发热管且位置对应。

具体地，所述上烤盘的内表面垂直地延伸出环形的锁水圈，所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述锁水圈的下端与所述下烤盘的内表面之间的距离小于等于7mm。

具体地，所述上烤盘和/或下烤盘的内表面上形成有弯曲的蒸汽通道。

具体地，所述蒸汽通道形成为螺旋形状。

具体地，所述上烤盘和/或下烤盘的内表面上设有垂直延伸出的螺旋延伸的凸筋，所述蒸汽通道由所述凸筋之间限定出。

具体地，所述凸筋包括依次连接的且径向间隔开的多条回形凸筋，且所述蒸汽通道形成为方螺旋形状。