[发明专利]一种表面处理剂及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种表面处理剂，其结构可用通式(A)表示为 

F-(CF₂)_a-(OC₃F₆)_b-(OC₂F₄)_c-(OCF₂)_d-(CH₂)_eNHCOO(CH₂)_f-Si(OR)₃     (A) 

其中a为1-3的整数；b，c，d独立地为0-100的整数；e为1或2；f为1或2或3，；R为CH₃、CH₂CH₃、CH(CH₃)₂或CH₂CH₂CH₃。

2.按照权利要求1所述的表面处理剂，其制备方法为将通式(B)的化合物和通式为(C)的化合物为反应物，经过加成反应制得。 

F-(CF₂)_a-(OC₃F₆)_b-(OC₂F₄)_c-(OCF₂)_d-(CH₂)_eOH      (B) 

其中a为1-3的整数；b，c，d独立地为0-100的整数；e为1或2 

NCO(CH₂)_f-Si(OR)₃       (C) 

其中f为1或2或3；R为CH₃、CH₂CH₃、CH(CH₃)₂或CH₂CH₂CH₃。

3.按照权利要求2所述的加成反应的反应条件为：通式(B)的化合物和通式为(C)的化合物摩尔比为1∶1.1～1∶1.3，反应温度为0℃～80℃，经过0.5h～24h，得到粗产物，经过减压蒸馏除去过量反应物(C)，得到产物。 

4.按照权利要求3所述的的制备方法，其特征是减压蒸馏的条件为压力-0.1～-0.09MPa，加热温度为90℃～110℃。 

5.按权利要求1所述的表面处理剂，其使用方法为将其涂覆在基材上形成表面处理剂层。 

6.按权利要求5所述的基材可以是经过活化处理后表面含有大量羟基的玻璃、聚合物、陶瓷或金属。