[发明专利]一种触摸屏清洗液及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410576521.1 申请日: 2014-10-26
公开(公告)号: CN104263538A 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 王纬 申请(专利权)人: 王纬
主分类号: C11D1/72 分类号: C11D1/72;C11D1/66;C11D3/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 030000 山西省太原市*** 国省代码: 山西;14
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 触摸屏 清洗 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于清洗液技术领域,具体涉及一种触摸屏清洗液及其制备方法。

背景技术

清洗工艺在电容触摸屏生产中是必不可少的工艺,清洗的效果对触摸屏产品的质量、精度、外观等方面的影响十分重要。在生产过程中如何保证电容触摸屏产品的高可靠性和高成品率?如何保证电容触摸屏生产的安全性及生产过程中对环境的保护?在又安全又环保的前提下,如何彻底清除材料表面的污物?这些都成了电容触摸屏从业人员每天都要思考和关注的话题。

特别是针对目前使用黄光工艺制程进行生产的OGS触摸屏产品的生产过程中,和使用毛毛虫SENSORS图案黄光制程进行生产的触摸屏产品的生产过程中,还有高品质的保护盖板丝印过程中,以及用水性光学胶对产品进行全贴合加工过程中,高效率、高品质的清洗工艺,对提升触摸屏产品品质,提高触摸屏产品生产效率,降低生产营运成本,有着十分积极的意义。

电容触摸屏工厂ITO导电材料上线之前,拆除包装时候,ITO膜表面会因各种原因,残留一些人体皮脂、静电吸附的灰尘、粘附在上面的纸屑和各种纤维。这些表面的污染物,如果不清除的话,一是会影响ITO的电学性能如接触电阻等,二是会影响ITO膜的光学性能,如透过率等,三是会污染生产车间环境,降低洁净厂房的洁净等级,给生产中使用的其它原材料带来二次污染。

发明内容

本发明的目的是提供一种触摸屏清洗液及其制备方法。

本发明触摸屏清洗液, 其特征在于包括如下质量份数的组分:

十二烷基硫酸铵1~3份、

月桂醇聚氧乙烯醚5~9份、

椰油酸二乙醇酰胺2~6份、

柠檬酸1~3份、

乙醇58~88份、

去离子水3~9份、

桉树醇2~5份。

作为优化,所述的触摸屏清洗液,包括如下质量份数的组分:

十二烷基硫酸铵1份、

月桂醇聚氧乙烯醚7份、

椰油酸二乙醇酰胺3份、

柠檬酸1份、

乙醇72份、

去离子水5份、

桉树醇2份。

制备该触摸屏清洗液的方法,包括以下步骤:

(1)将所述质量分数的月桂醇聚氧乙烯醚、椰油酸二乙醇酰胺、桉树醇加入到搅拌机中,在63~81℃条件下,搅拌均匀;

(2)将所述质量分数的十二烷基硫酸铵缓慢加入到去离子水中,56~74℃条件下,搅拌均匀;

(3)将步骤(1)和步骤(2)中的混合物,在46~68℃条件下,缓慢加入到所述质量份数的乙醇中;待温度降到38~55℃的条件下,加入所述质量分数的柠檬酸,搅拌均匀即成。使用该触摸屏清洗液时,可以将清洗液,加入到超声波触摸屏清洗机中,进行清洗。

本发明触摸屏清洗液,成本较低、工艺简单;对各种玻璃等均安全无腐蚀性。不含硫、苯等有毒及腐蚀性物质,使用后不掉镜面银、不脱油墨。而且该清洗液使用后不易产生静电,减少了触摸屏处理后产生二静电污染的可能性,洗涤剂的各个组分环保可靠,对人体刺激性气味小,无毒副作用。

具体实施方式

下面给出的实施例拟对本发明作进一步说明,但不能理解为是对本发明保护范围的限制,本领域技术人员根据本发明内容对本发明的一些非本质的改进和调整,仍属于本发明的保护范围。

实施例1:

(1)取月桂醇聚氧乙烯醚7克、椰油酸二乙醇酰胺3克、桉树醇2克加入到搅拌机中,在63~81℃条件下,搅拌均匀;

(2)取十二烷基硫酸铵1克缓慢加入到5克去离子水中,56~74℃条件下,搅拌均匀;

(3)将步骤(1)和步骤(2)中的混合物,在46~68℃条件下,缓慢加入到72克的乙醇中;待温度降到38~55℃的条件下,加入所述质量分数的柠檬酸1克,搅拌均匀即成。

实施例2:

(1)取月桂醇聚氧乙烯醚5克、椰油酸二乙醇酰胺2克、桉树醇2克加入到搅拌机中,在63~81℃条件下,搅拌均匀;

(2)取十二烷基硫酸铵1克缓慢加入到3克去离子水中,56~74℃条件下,搅拌均匀;

(3)将步骤(1)和步骤(2)中的混合物,在46~68℃条件下,缓慢加入到58克的乙醇中;待温度降到38~55℃的条件下,加入所述质量分数的柠檬酸1克,搅拌均匀即成。

实施例3:

(1)取月桂醇聚氧乙烯醚9克、椰油酸二乙醇酰胺6克、桉树醇5克加入到搅拌机中,在63~81℃条件下,搅拌均匀;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王纬,未经王纬许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410576521.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top