[发明专利]显影装置有效
申请号: | 201410484445.1 | 申请日: | 2014-09-19 |
公开(公告)号: | CN104516241B | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 佐藤正吾 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08 |
代理公司: | 11377 北京航忱知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 陈立航 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 显影辊 密封构件 壳体 轴向 施加 显影装置 | ||
提供一种显影装置,包括:显影辊;壳体,被构成为支持所述显影辊;第一密封构件,在所述显影辊的轴向的每个端部布置在所述显影辊与所述壳体之间;以及第二密封构件,在每个所述第一密封构件的所述轴向的内侧布置在所述显影辊与所述壳体之间,所述第二密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力小于所述第一密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力。
技术领域
本发明涉及一种具有显影辊的显影装置。
背景技术
已知一种用于电子照相型图像形成设备的显影装置。该显影装置包括:显影辊;壳体,被构成为支撑显影辊;以及密封构件,在显影辊的每个轴向端部布置在显影辊与壳体之间。
例如,日本特开2002-287488号公报公开了一种用于显影装置的密封构件。该密封构件包括:第一密封构件;以及第二密封构件,具有与第一密封构件相同的结构,布置在第一密封构件的显影辊轴向内侧。
但是,在上述结构中,在第二密封构件与显影辊之间的接触部分,显影剂由于接触部分产生的摩擦热而熔化,熔化的显影剂可能附着在第二密封构件上。如果显影剂附着在第二密封构件上,则显影辊可能被所附着的显影剂磨削,导致显影剂可能从磨削部分泄漏。
发明内容
因此,本发明的一个方面是提供一种显影装置,其能够抑制显影剂附着到密封构件,并且防止显影剂泄漏。
根据本发明示例性实施方式,提供一种显影装置,包括:显影辊;壳体,被构成为支持所述显影辊;第一密封构件,在所述显影辊的轴向的每个端部布置在所述显影辊与所述壳体之间;以及第二密封构件,在每个所述第一密封构件的所述轴向的内侧布置在所述显影辊与所述壳体之间,所述第二密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力小于所述第一密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力。
根据上述结构,由于第二密封构件与显影辊之间的接触部分的摩擦力更小,因此能够抑制显影剂由于在接触部分所产生的摩擦热而熔化和附着到第二密封构件。因此,能够抑制显影辊被磨削,能够抑制显影剂从磨削部分泄漏。此外,即使显影剂通过第二密封构件与显影辊之间的接触部分而泄漏,也能由第一密封构件阻挡所泄漏的显影剂,从而能够防止显影剂泄漏到外部。
在上述显影装置中,所述第一密封构件和所述第二密封构件在所述轴向上具有间隔。
根据上述结构,即使当显影剂通过第二密封构件与显影辊之间而泄漏时,所泄漏的显影剂落在第一密封构件与第二密封构件之间,从而不到达第一密封构件。因此,能够抑制显影剂由于在第一密封构件与显影辊之间的接触部分所产生的摩擦热而熔化和附着。
在上述显影装置中,所述第一密封构件包括:接触构件,被构成为与所述显影辊相接触;以及能够弹性变形的第一弹性构件,布置在所述接触构件与所述壳体之间,被构成为朝着所述显影辊对所述接触构件施力。所述第二密封构件由能够弹性变形的第二弹性构件制成,所述第二弹性构件的弹力小于所述第一弹性构件的弹力。
在上述显影装置中,所述第二密封构件由刷子制成。
在上述显影装置中,所述第二密封构件由薄片制成,所述薄片包括被构成为与所述显影辊相接触的头端。
在这种情况下,所述薄片的所述头端朝着所述轴向的内侧弯曲。
根据上述结构,由于显影剂难以从轴向内侧向外侧泄漏到薄片与显影辊之间,因此,能够抑制显影剂泄漏。
上述显影装置还包括:供给辊,被构成为与所述显影辊相接触,所述供给辊的旋转轴布置在所述供给辊与所述显影辊之间的接触部分的下侧。
上述显影装置还包括:第一输送构件,布置成面对所述供给辊,被构成为朝着所述供给辊输送显影剂;以及壁部,布置在所述第一输送构件的上侧且所述供给辊与所述显影辊之间的所述接触部分的下侧。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于兄弟工业株式会社,未经兄弟工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410484445.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种战场抢修资源重组优化决策方法
- 下一篇:界面功能解析显示方法及装置