[发明专利]显影装置有效
申请号: | 201410484445.1 | 申请日: | 2014-09-19 |
公开(公告)号: | CN104516241B | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 佐藤正吾 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08 |
代理公司: | 11377 北京航忱知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 陈立航 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显影辊 密封构件 壳体 轴向 施加 显影装置 | ||
1.一种显影装置,包括:
显影辊;
壳体,被构成为支持所述显影辊;
第一密封构件,在所述显影辊的轴向的每个端部布置在所述显影辊与所述壳体之间;以及
第二密封构件,
其特征在于,所述第二密封构件在每个所述第一密封构件的所述轴向的内侧布置在所述显影辊与所述壳体之间,所述第二密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力小于所述第一密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力,
所述第一密封构件和所述第二密封构件在所述轴向上具有间隔。
2.一种显影装置,包括:
显影辊;
壳体,被构成为支持所述显影辊;
第一密封构件,在所述显影辊的轴向的每个端部布置在所述显影辊与所述壳体之间;以及
第二密封构件,
其特征在于,所述第二密封构件在每个所述第一密封构件的所述轴向的内侧布置在所述显影辊与所述壳体之间,所述第二密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力小于所述第一密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力,
所述第一密封构件包括:
接触构件,被构成为与所述显影辊相接触;以及
能够弹性变形的第一弹性构件,布置在所述接触构件与所述壳体之间,被构成为朝着所述显影辊对所述接触构件施力,
所述第二密封构件由能够弹性变形的第二弹性构件制成,
所述第二弹性构件的弹力小于所述第一弹性构件的弹力。
3.一种显影装置,包括:
显影辊;
壳体,被构成为支持所述显影辊;
第一密封构件,在所述显影辊的轴向的每个端部布置在所述显影辊与所述壳体之间;以及
第二密封构件,
其特征在于,所述第二密封构件在每个所述第一密封构件的所述轴向的内侧布置在所述显影辊与所述壳体之间,所述第二密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力小于所述第一密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力,
所述第二密封构件由刷子制成。
4.一种显影装置,包括:
显影辊;
壳体,被构成为支持所述显影辊;
第一密封构件,在所述显影辊的轴向的每个端部布置在所述显影辊与所述壳体之间;以及
第二密封构件,
其特征在于,所述第二密封构件在每个所述第一密封构件的所述轴向的内侧布置在所述显影辊与所述壳体之间,所述第二密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力小于所述第一密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力,
所述第二密封构件由薄片制成,所述薄片包括被构成为与所述显影辊相接触的头端。
5.根据权利要求4所述的显影装置,其特征在于,
所述薄片的所述头端朝着所述轴向的内侧弯曲。
6.一种显影装置,包括:
显影辊;
壳体,被构成为支持所述显影辊;
第一密封构件,在所述显影辊的轴向的每个端部布置在所述显影辊与所述壳体之间;以及
第二密封构件,
其特征在于,所述第二密封构件在每个所述第一密封构件的所述轴向的内侧布置在所述显影辊与所述壳体之间,所述第二密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力小于所述第一密封构件相对于所述显影辊每单位面积所施加的摩擦力,
所述显影装置还包括:
供给辊,被构成为与所述显影辊相接触,
所述供给辊的旋转轴布置在所述供给辊与所述显影辊之间的接触部分的下侧,
所述显影装置还包括:
第一输送构件,布置成面对所述供给辊,被构成为朝着所述供给辊输送显影剂;以及
壁部,布置在所述第一输送构件的上侧且所述供给辊与所述显影辊之间的所述接触部分的下侧。
7.根据权利要求6所述的显影装置,其特征在于,还包括:
第二输送构件,布置在所述壁部的上侧,被构成为朝着所述显影辊的相反侧输送所述壁部上的显影剂。
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