[发明专利]光学辅助量测装置及应用该装置的量测方法

权利要求书

1.一种光学量测辅助装置，适用于辅助至少一待测物离开一承载单元并进行光学量测，该光学量测辅助装置包含：

一吸取单元，用于吸取该待测物，且包括一本体、至少一贯穿设置于该本体的量测孔，及一设置于该本体内的气体流道，该量测孔具有形成于该本体表面且相反设置的一第一端口及一第二端口，该气体流道具有至少一形成于该本体表面临近该第二端口处的吸取口、至少一形成于该本体表面的抽气接口，该本体表面临近该吸取口处形成一接触面。

2.根据权利要求1所述的光学量测辅助装置，其特征在于，该本体对应该量测孔的内周面具有一衔接该第一端口的外扩段，该外扩段是由该第二端口朝该第一端口逐渐外扩延伸。

3.根据权利要求1所述的光学量测辅助装置，其特征在于，该吸取单元还包括至少一设置于该本体且用于控制该吸取口与该抽气接口间的连通的气阀件。

4.根据权利要求3所述的光学量测辅助装置，其特征在于，该吸取单元还包括一能用以控制该气阀件的控制件。

5.根据权利要求1所述的光学量测辅助装置，其特征在于，该吸取单元还包括至少一设置于该本体表面且环绕该吸取口的软质环体。

6.根据权利要求1所述的光学量测辅助装置，其特征在于，该吸取口为一环绕该量测孔的第二端口的环形开口。

7.根据权利要求1所述的光学量测辅助装置，其特征在于，该吸取口为多数间隔环绕该量测孔的第二端口的圆形开口。

8.根据权利要求1所述的光学量测辅助装置，其特征在于，还包含该承载单元，该承载单元包括一基板及至少一由该基板顶面向下凹陷形成的放置槽，该放置槽可用于放置该待测物。

9.根据权利要求1所述的光学量测辅助装置，其特征在于，还包含该承载单元，该承载单元包括一基板、至少一由该基板顶面向下凹陷形成的放置槽，及至少一凸设于该基板顶面且临近该放置槽的顶块，该放置槽可用于放置该待测物，该吸取单元还包括至少一贯穿设置于该本体且临近该量测孔并连通该气体流道的阀孔，及至少一可于一第一位置及第二位置间移动地设置于该阀孔内的气阀件，当该气阀件位于该第一位置时，该气阀件使得该吸取口与该抽气接口间为连通状态，当该吸取单元叠设于该承载单元上且该吸取口对应于该放置槽内的待测物时，承载单元的顶块凸伸进该阀孔内顶推该气阀件移动至该第二位置。

10.一种光学量测方法，应用如权利要求1至8中任一项所述的光学量测辅助装置进行，该光学量测方法包含以下步骤：

一准备步骤：将该待测物放置于该承载单元的放置槽内；

一吸取步骤：将该吸取单元的接触面靠近该待测物后，通过该抽气接口对该气体流道进行抽气，进而使得该吸取口产生吸力，藉此吸取该待测物离开该承载单元的放置槽；

一量测步骤：将该吸取单元连同所吸取的该待测物移入一量测设备，该量测设备通过该吸取单元的量测孔对于吸附于该接触面的该待测物进行光学量测；及

一脱离步骤：于该量测步骤后，将该吸取单元连同所吸取的该待测物移至该承载单元上方，且进行该吸取单元与该承载单元间的对位，使得该吸取单元所吸取的待测物对准该承载单元的放置槽，接着该吸取单元将所吸取的待测物放置于该承载单元的放置槽内，最后停止对该气体流道进行抽气，使得该待测物脱离该吸取单元。

11.一种光学量测方法，应用权利要求9所述的光学量测辅助装置进行，该光学量测方法包含以下步骤：

一准备步骤：将该待测物放置于该承载单元的放置槽内；

一吸取步骤：将该吸取单元的接触面靠近该待测物，同时该承载单元的顶块凸伸入该阀孔顶推该气阀件至该第二位置，使得该吸取口与该抽气接口间为连通状态，接着通过该抽气接口对该气体流道进行抽气，进而使得该吸取口产生吸力，藉此吸取该待测物；

一量测步骤：将该吸取单元连同所吸取的该待测物移入一量测设备，该量测设备通过该吸取单元的量测孔对于吸附于该接触面的该待测物进行光学测量；

一选别步骤：于该量测步骤后，根据该量测设备的量测结果，将对应于为不良品的待测物的气阀件通过该阀孔抵推至该第一位置，使得对应于为不良品的待测物的吸取口与该抽气接口为不连通状态，从而让为不良品的待测物预先脱离该吸取单元；及

一脱离步骤：于该选别步骤后，将该吸取单元连同所吸取的该待测物移至该承载单元上方，且进行该吸取单元与该承载单元间的对位，使得该吸取单元所吸取的待测物对准该承载单元的放置槽，接着该吸取单元将所吸取的待测物放置于该承载单元的放置槽内，同时该承载单元的顶块凸伸入该阀孔顶推该气阀件至第二位置，使得该吸取口与该抽气接口间为连通状态，最后使该吸取口与该抽气接口间为不连通状态，使得该待测物脱离该吸取单元。