[发明专利]用于机器的处理站以及控制装置和控制方法

说明书

提供了用于机器（1）的处理站（3、4）以及控制装置（5）和控制方法。处理站（3、4）包括用于操作负载（72）的机器人（100、110），负载（72）被载体（70、80、90）传送，载体（70、80、90）能够通过磁力在传送系统（2）的特定传送方向上运动，其中，机器人（100、110）能够由控制单元（6）控制，以在与传送系统的特定传送方向不同的运动方向上运动，以操作负载（72），并且其中，用于传送负载（72）的特定传送方向和机器人（100、110）的运动方向被叠加，以在处理站（3、4）中操作负载（72），以消除机器人（100、110）在传送系统（2）的传送方向上运动的需要。

技术领域

本发明涉及用于机器的处理站，以及用于控制机器的处理中的运动的控制装置和控制方法，其中，尤其有可能消除抓放机器人在传送系统的传送方向上运动的需要。

背景技术

在用于生产物件的机器中，传送系统用于传送部件、工具等到机器的不同站点，所述部件、工具等可用于物件的生产。例如，这样的机器在US4,096,821中被描述，其公开了用于在基片上制造薄膜电子器件的系统。

在这种机器中，通常传送系统包括传送带，以相同速度一个一个地传送基片到处理站。在处理站中，基片被从带上取下，这由在X、Y、Z和Θ方向运动的机器人处理，并且基片随后被放回到传送带上。于是，基片在处理站中静止不动，使得机器人可以在基片上拿取和放置物品。在那之后，所有基片随着传送带以相同速度被传送至下一个处理站。

基片的这种操作需要许多操作步骤，因此是耗时的。结果，处理成本增加。此外，由于能够在X、Y、Z和Θ方向运动的机器人是昂贵的，导致了机器本身的高成本。这也带来了机器的处理成本的增加。

发明内容

因此本发明的目标是提供用于机器的处理站，以及用于控制机器的处理中的运动的控制装置和控制方法，所述处理站、装置和方法的每一项都解决了上述问题。具体地，用于机器的处理站以及用于控制机器的处理中的运动的控制装置和控制方法应该被设置为，由此机器的处理时间可以减少，从而机器的工作成本以及也有可能的机器的购置成本可以减少。

这个目标通过根据权利要求1的用于机器的处理站而实现。该处理站包括用于操作负载的机器人，该负载被载体传送，该载体能够通过磁力在传送系统的特定传送方向上运动，其中，该机器人能够由控制单元控制，以在与传送系统的特定传送方向不同的运动方向上运动，以便操作负载，并且其中，用于传送负载的特定传送方向和机器人的运动方向被叠加，以在处理站中操作负载，以消除机器人在传送系统的传送方向上运动的需要。

由于在前述的处理站中所执行的控制，相比于机器的常规控制，用于在机器的处理站和由此在机器中执行处理的时间被缩短。结果，处理成本被减少。

该处理站在处理时间本身不能减少的情况下是尤其有利的。由于在处理站中执行的控制可以减少在机器的处理站中的操作时间，所以可以减少在处理站中所需的全部时间。

此外，处理站可以使用简单的更廉价的机器人，因为在操作作为负载的物件时的至少一个运动方向被传送系统接管实现。结果，机器成本并且从而机器自身的处理成本被减少。

在上述处理站的情况下，传送系统的载体可以以相同速度或者（一个或多个）不同的速度在传送系统中运动，结果，机器在适应将要由机器执行的处理时更加灵活。

进一步，由于机器人不在特定传送方向上运动，处理站在特定传送方向上需要更少的空间。结果，机器可以被建造得更加紧凑，这也有助于降低机器的成本。

此外，传送系统在特定传送方向上的运动可以以非常高的精度执行。具体地，可以实现高达约0.1 mm甚至高达约1 μm的范围内的定位精度。由此，在需要如此高的定位精度的处理中，可以用传送系统在特定传送方向上的运动来代替机器人在特定传送方向上的运动。

处理站的进一步有利改进在从属权利要求中阐明。