[发明专利]用于机器的处理站以及控制装置和控制方法

权利要求书

1.用于机器（1）的处理站（3、4），包括机器人（100、110），所述机器人（100、110）用于拿取和放置或操作负载（72），所述负载（72）被载体（70、80、90）传送，所述载体（70、80、90）能够通过磁力在传送系统（2）的特定传送方向上运动并被驱动装置（50）驱动，所述驱动装置（50）由第一控制单元（6）控制，其中，所述机器人（100、110）能够由第二控制单元（7）控制，以在与所述传送系统的所述特定传送方向不同的运动方向上运动，以便拿取和放置或操作所述负载（72），并且其中，用于传送所述负载（72）的所述特定传送方向和所述机器人（100、110）的所述运动方向被叠加，以在所述处理站（3、4）中操作或拿取和放置所述负载（72），以消除所述机器人（100、110）在所述传送系统（2）的所述特定传送方向上运动的需要，由此，通过将所述第一控制单元（6）的控制适应或耦合到由所述第二控制单元（7）控制的运动，由控制装置使用于在所述特定传送方向上传送所述负载（72）的控制和用于在所述运动方向上移动所述机器人（100、110）的控制同步，以便操作或拿取和放置所述负载（72）；所述传送系统的载体可以以相同速度或者多个不同的速度在所述传送系统中运动。

2.根据权利要求1所述的处理站（3、4），其中，所述处理站（3、4）包括多于一个机器人（100、110）。

3.根据权利要求1至2中任何一个所述的处理站（3、4），其中，所述处理站（3、4）被用在对于操作所述负载（72）而言需要高达约1 μm的定位精度的处理中。

4.根据权利要求1至2中任何一个所述的处理站（3、4），其中，所述处理站（3、4）是用于生产半导体元件的处理站。

5.机器（1），包括根据前述任何一个权利要求所述的至少一个处理站（3、4）并包括传送系统（2），所述传送系统（2）用于通过磁力在特定传送方向上传送至少一个载体（70、80、90），所述载体（70、80、90）被用作在所述机器（1）中传送将要被操作的负载（72），其中，所述传送系统（2）被布置为传送所述负载（72）到和/或离开所述至少一个处理站（3、4）。

6.根据权利要求5所述的机器（1），还包括第一控制单元（6）和第二控制单元（7），所述第一控制单元（6）用于控制所述载体（70、80、90）以通过磁力在特定传送方向上运动，所述第二控制单元（7）用于控制所述机器人（100）以在与所述传送系统（2）的所述特定传送方向不同的运动方向上运动以操作所述负载（72）。

7.根据权利要求5或6所述的机器（1），其中，所述传送系统（2）被配置为传送作为所述负载（72）的基片，并且所述一个或多个机器人（100、110）被配置为添加物品（113）到所述基片。

8.控制装置（5），用于控制机器（1）的处理中的运动，包括第一控制单元（6）和第二控制单元（7），所述第一控制单元（6）用于控制载体（70、80、90），所述载体（70、80、90）将会通过磁力在传送系统（2）的特定传送方向上被传送，所述载体（70、80、90）被用于传送所述机器（1）中的将要被操作的负载（72），所述第二控制单元（7）用于控制机器人（100）以在与所述特定传送方向不同的运动方向上运动以操作所述负载（72），其中，所述第一控制单元（6）和第二控制单元（7）被配置为执行控制，在所述控制中，在所述机器（1）的处理站（3）中操作所述负载（72）时，用于传送所述负载（72）的所述特定传送方向和所述机器人（100）的所述运动方向被叠加，以消除所述机器人（100）在所述传送系统（2）的所述特定传送方向上运动的需要，其中，在操作所述负载（72）时，由所述控制装置使用于在所述特定传送方向上传送所述负载（72）的控制和用于在所述运动方向上移动所述机器人（100、110）的控制同步；所述传送系统的载体可以以相同速度或者多个不同的速度在所述传送系统中运动。