[发明专利]一种托盘及承载装置

权利要求书

1.一种托盘，所述托盘包括托盘本体和位于托盘本体上的绝缘体，在所述绝缘体上设置有多个用于承载基片的工艺位，并且，在所述绝缘体内设置有吸附电极；其特征在于，所述吸附电极的数量和位置与所述基片的数量和位置一一对应，借助每个吸附电极在其下方与直流电源电连接，以采用静电吸附方式固定与之对应的基片，并且，所述基片的面积大于与之对应的所述吸附电极的面积，用以遮挡所述吸附电极，以使所述吸附电极距离所述绝缘体的未被基片遮挡的区域上表面之间的距离为二者之间的倾斜距离。

2.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于，在各个所述吸附电极的下方还设置有平板电极层，每个所述吸附电极在其下方通过导线均与所述平板电极层电连接，借助所述平板电极层与所述直流电源电连接，以实现各个所述吸附电极与所述直流电源电连接。

3.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于，各个所述吸附电极借助在其下方设置的导线实现各个吸附电极串联，所述导线与所述直流电源电连接，以实现各个所述吸附电极与所述直流电源电连接。

4.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于，每个所述吸附电极与所述绝缘体上表面之间的间距的范围在0.1～0.3mm。

5.根据权利要求2所述的托盘，其特征在于，每个所述吸附电极与所述平板电极层之间的间距≥0.4mm。

6.根据权利要求3所述的托盘，其特征在于，所述导线与所述绝缘体上表面之间的间距＞0.1mm且≤0.5mm。

7.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于，所述吸附电极和所述基片均为圆形。

8.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于，每个所述基片的直径和与之对应的所述吸附电极的直径的差值范围在0.3～2mm。

9.根据权利要求1-8任意一项所述的托盘，其特征在于，所述基片包括蓝宝石衬底。

10.一种承载装置，包括用于承载基片的托盘，其特征在于，所述托盘采用权利要求1-9任意一项所述的托盘。