[发明专利]一种抛晶砖的制造方法及其产品

说明书

技术领域

本发明涉及陶瓷砖制造技术领域，尤其是涉及一种抛晶砖的制造方法及其产品。

背景技术

抛晶砖是在砖坯表面印花后将微晶玻璃复合在印花层上的陶瓷砖，在坯体与微晶玻璃层之间设置有图案，微晶玻璃层能够保护图案同时通过光线的折射和透射呈现出良好的装饰效果。因其釉下装饰、高温烧成、釉面细腻、高贵华丽，属于高档装饰产品，越来越受到消费者的喜爱，因而市场销量越来越大。

为了丰富抛晶砖的装饰效果，具有金属光泽的抛晶砖产品已经逐步出现，但现有技术由于金属釉和熔块结合使用时，熔块高温下产生熔融会让金属釉分散开来，而金属离子难以聚集，就难以产生金属光泽。因此现有公司制具有金属光泽的抛晶砖成品率低，生产成本高，浪费严重。

发明内容

本发明的目的在于提出一种抛晶砖的制造方法，其能够解决现有技术难以产生金属光泽的问题，而且工艺稳定，成品率高。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种抛晶砖的制造方法，步骤依次包括：

A、将陶瓷粉料压制形成砖坯并干燥；

B、在干燥后的砖坯上印花装饰，然后布熔块；

C、喷固定剂对熔块进行固定,并在固定剂未干前用压胶的凸纹的模具压出纹路，使熔块层出现凹坑；或者先采用凸纹的模具压出纹路，再喷固定剂；

D、烧成；

E、在烧制好的半成品上，或仅在凹坑内，喷涂一层金属光泽涂料，烘干后抛光，包装入库。

所述步骤B中的所述印花装饰为丝网印花、辊筒印花、喷墨印花中的一种或多种组合。当然，优选的是丝网印花和喷墨印花相结合，因为喷墨印花难以处理灰度较高的设计图案，通过丝网印花补色的方式则可以很好解决这一问题，进而获得高灰度，分辨率高，图案细腻的效果。

所述步骤C中的所述固定剂为0.01％-0.1％的PVA溶液。当然也可以选择羧甲基纤维素的水溶液。

所述步骤C中的所述凹坑深度为1-4mm，优选为2-3mm。过浅，在熔融时因为熔块熔融的玻璃相流动而将凹坑填平，同时在抛光时，也会损伤在凹坑处的金属光泽涂料；过深，则容易损伤印花层图案。

所述步骤E中的所述金属光泽涂料细度大于等于300目。涂料细度过粗不容易与微晶玻璃层复合，容易分层。

所述步骤E中的所述金属光泽涂料粘度为200-500cps。适当的粘度也是为了让金属光泽涂料能较好的涂覆，并于微晶玻璃层复合。

所述步骤E中的所述烘干为在200-300℃下烘干10-20分钟。通过烘干，能让金属光泽涂料迅速在砖面上固定，并使得金属光泽涂料与砖面做更好的复合。

所述步骤E中的所述金属光泽涂料覆盖率为7.5-9m²/kg。覆盖率过低，金属光泽不明显，覆盖率过高，则形成的涂层较厚，后续使用中容易开裂。

与现有技术相比，本发明在烧制前预压形成凹坑，并将金属涂料喷涂在凹坑内，避免了现有技术中在烧制前上金属釉而带来的金属釉分散烧制后无光泽，与熔块适应性不好的问题，产品金属质感强，光泽度高，并且金属能够与微晶纹理相复合，砖面和谐统一，表现力强。而且成品率提高，制造成本也有所降低。

本发明的另一个目的在于提出一种由上述方法制造的抛晶砖，其由下而上依次包括底坯层、装饰层和玻璃层。

进一步地，在上述方法制造的抛晶砖中，所述底坯层厚度为8-10mm。

进一步地，在上述方法制造的抛晶砖中，所述装饰层厚度0.1-0.5mm。

进一步地，在上述方法制造的抛晶砖中，所述玻璃层厚度0.5-3mm。

进一步地，在上述方法制造的抛晶砖中，所述玻璃层上设置有凹坑。

进一步地，在上述方法制造的抛晶砖中，所述凹坑深度为1-4mm。

进一步地，在上述方法制造的抛晶砖中，所述凹坑的内表面有金属光泽层。

进一步地，在上述方法制造的抛晶砖中，所述凹坑大小、深浅不一。

附图说明

图1是本发明的其中一个实施例的抛晶砖的制造方法的进行过程中砖坯结构变化的截面示意图。

附图标号：1—底坯层1；2—印花层；3—熔块层；31—凹坑；4—玻璃层；5—金属光泽层。

具体实施方式

下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。

实施例1

一种抛晶砖如图1所示，其由下而上依次包括底坯层1、印花层2和玻璃层4、玻璃层表面分布有凹坑31，在所述凹坑31表面具有一层金属光泽层5。