[发明专利]显示基板及其制造方法和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制造方法和显示装置。

背景技术

液晶显示装置是目前最常用的平板显示器，其中薄膜晶体管液晶显示装置(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)是液晶显示装置中的主流产品。液晶显示面板是液晶显示装置中的重要部件。液晶显示面板是通过对盒工艺将一阵列基板和一彩膜基板对盒而形成，并且在阵列基板和彩膜基板之间填充有液晶层。图1为现有技术中彩膜基板的结构示意图，如图1所示，该彩膜基板包括衬底基板11、黑矩阵12、彩色矩阵图形13和覆盖层14，黑矩阵12和彩色矩阵图形13形成于衬底基板11上，黑矩阵12位于彩色矩阵图形13之间且黑矩阵12位于彩色矩阵图形13之下，覆盖层14位于彩色矩阵图形13之上。进一步地，在衬底基板11的背面还形成有背电极层15。其中，彩色矩阵图形13可以为红色矩阵图形、绿色矩阵图形或者蓝色矩阵图形。

随着产品分辨率的提高，彩膜基板的像素(Pixel)尺寸越来越小，导致黑矩阵和彩色矩阵图形的线宽也越来越细。为了实现细线宽的黑矩阵和彩色矩阵图形，单纯依靠掩膜板开口尺寸的降低是无法实现的。通常在曝光工艺中，会通过尽量降低曝光间距(Gap)来实现，其中，曝光间距可以为掩膜板的下表面与光刻胶的上表面之间的距离。以黑矩阵为例，假设黑矩阵的目标线宽为a，则a＜10μm的黑矩阵均属于细线宽的黑矩阵。图2为黑矩阵的坡度角的示意图，如图2所示，当a＜10μm时，基本需要曝光间距≤150μm的工艺条件才能实现，而此时形成的黑矩阵的坡度角θ通常大于70°，黑矩阵的坡度角较大。随着黑矩阵线宽尺寸的进一步细化，曝光间距需要进一步降低，形成的黑矩阵的坡度角会继续提高，直至坡度角提高为90°。

现有技术中黑矩阵的坡度角较大会产生如下技术问题：

1)图3为黑矩阵和彩色矩阵图形之间产生交叠空隙的示意图，图4为彩色矩阵图形产生气泡的示意图，如图3和图4所示，在制作完成的黑矩阵12之上进行彩色矩阵图形13的制作时，黑矩阵12和彩色矩阵图形13之间容易产生交叠空隙16，以及在彩色矩阵图形中形成气泡(Bubble)17。

2)如图1所示，黑矩阵的坡度角越大，黑矩阵与彩色矩阵图形的搭接区的角段差越大，从而导致彩膜基板表面的平整度较差。

发明内容

本发明提供一种显示基板及其制造方法和显示装置，用于避免黑矩阵和彩色矩阵图形之间产生交叠空隙以及在彩色矩阵图形中产生气泡，以及提高显示基板表面的平整度。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板，包括衬底基板和形成于所述衬底基板上方的黑矩阵和彩色矩阵图形，所述黑矩阵和所述彩色矩阵图形之间形成有第一覆盖层，所述黑矩阵和所述彩色矩阵图形的上方形成有第二覆盖层。

可选地，所述第一覆盖层为平坦层，所述第二覆盖层为平坦层。

可选地，所述黑矩阵位于所述衬底基板之上，所述第一覆盖层位于所述黑矩阵之上，所述彩色矩阵图形位于所述第一覆盖层之上，所述第二覆盖层位于所述彩色矩阵图形之上；或者

所述彩色矩阵图形位于所述衬底基板之上，所述第一覆盖层位于所述彩色矩阵图形之上，所述黑矩阵位于所述第一覆盖层之上，所述第二覆盖层位于所述黑矩阵之上。

可选地，若所述第一覆盖层位于所述黑矩阵之上，所述第一覆盖层的厚度为1.0μm至2.0μm，所述黑矩阵的厚度为0.9μm至2.0μm；

若所述第一覆盖层位于所述彩色矩阵图形之上，所述第一覆盖层的厚度为1.0μm至3.0μm，所述彩色矩阵图形的厚度为1.0μm至3.0μm。

可选地，还包括公共电极层，所述公共电极层形成于所述第二覆盖层之上。

可选地，还包括配向层，所述配向层形成于所述第二覆盖层的上方。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示装置，包括相对设置的上述显示基板和对置基板。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板的制造方法，包括：

在衬底基板上形成黑矩阵、彩色矩阵图形和第一覆盖层，所述第一覆盖层位于所述黑矩阵和所述彩色矩阵图形之间；

在所述黑矩阵和所述彩色矩阵图形的上方形成第二覆盖层。

可选地，所述在衬底基板上形成黑矩阵、彩色矩阵图形和第一覆盖层包括：

在衬底基板上形成所述黑矩阵；

在所述黑矩阵之上形成所述第一覆盖层；

在所述第一覆盖层之上形成彩色矩阵图形；

所述在所述黑矩阵和所述彩色矩阵图形的上方形成第二覆盖层包括：