[发明专利]含二氟亚甲基的化合物及其制备方法

权利要求书

1.一种含二氟亚甲基化合物的制备方法，其特征在于包括以下步骤：在溶剂中，碱、配体和催化剂存在的条件下，将化合物A与化合物B进行suzuki偶联反应，得到化合物C即可，所述的催化剂为镍盐，所述的镍盐为NiQ₂·mH₂O、NiL_nCl₂或NiL_nBr₂；

其中，Q为硝酸根或卤素，0≤m≤10，0<n<3；L为三苯基膦、三环己基膦、1,2双(二苯基膦)乙烷、1,3-双(二苯基膦)丙烷、1,1'-双(二苯基膦)二茂铁、二甲基乙二醚、或二乙二醇二甲醚；X为卤素；

R¹为“取代或未取代的C₃～C₁₅的芳基”、“杂原子为氧、硫或氮原子，杂原子数为1-3个的，取代或未取代的C₂～C₁₅的杂芳基”、所述的“取代或未取代的C₃～C₁₅的芳基”或“杂原子为氧、硫或氮原子，杂原子数为1-3个的，取代或未取代的C₂～C₁₅的杂芳基”中所述的“取代”为被氰基、羟基、硝基、卤素、C₁～C₁₀的烷基、C₁～C₁₀的烷氧基、C₁～C₁₀的烷硫基、C₁～C₁₀的烷基硅基、“卤素取代的C₁～C₁₀的烷基”、“羟基取代的C₁～C₁₀的烷基”、C₂～C₁₀的烯基、C₂～C₁₀的炔基、C₃～C₁₀的芳基、“杂原子为氧、硫或氮原子、杂原子数为1-3个的C₂～C₆的杂环烷基”、中的一个或多个所取代，当存在多个取代基时，所述的取代基相同或不同；R³、R⁴和R⁵各自独立的为氢原子、氨基、C₁～C₆的烷基或C₃～C₆的环烷基；R⁶和R⁷各自独立的为C₁～C₆的烷基或C₃～C₆的环烷基；R⁸为氢原子、C₁～C₆的烷基或C₃～C₆的环烷基；

R²为或“杂原子为氧、硫或氮原子、杂原子数为1-3个的取代或未取代的C₂～C₁₅的杂芳基”，所述的“杂原子为氧、硫或氮原子、杂原子数为1-3个的取代或未取代的C₂～C₁₅的杂芳基”中所述的“取代”是指被氰基、卤素、C₁～C₁₀的烷基、C₁～C₁₀的烷氧基、“卤素取代的C₁～C₁₀的烷基”、C₂～C₁₀的烯基、C₂～C₁₀的炔基中的一个或多个所取代，当存在多个取代基时，所述的取代基可以相同或不同；R⁹为C₁～C₆的烷基或C₃～C₆的环烷基；

R¹⁰为取代或未取代的C₁～C₁₀的烷基、“杂原子为氧、硫或氮原子，杂原子数为1-3个的取代或未取代的C₂～C₁₅的杂环烷基”、取代或未取代的C₃～C₁₅的芳基或C₃～C₁₅的芳氨基；所述的R¹⁰中所述的“取代或未取代的C₁～C₁₀的烷基”中所述的“取代”是指被C₃～C₁₅的芳基所取代；所述的R¹⁰中所述的“杂原子为氧、硫或氮原子，杂原子数为1-3个的取代或未取代的C₂～C₁₅的杂环烷基”中所述的“取代”是指被C₁～C₁₀的烷基和C₃～C₆的环烷基中的一个或多个所取代，当存在多个取代基时，所述的取代基可以相同或不同；

所述的R¹⁰中所述的“取代或未取代的C₃～C₁₅的芳基”中所述的“取代”为被氰基、卤素、C₁～C₁₀的烷基、C₁～C₁₀的烷氧基、“卤素取代的C₁～C₁₀的烷基”、C₂～C₁₀的烯基、C₂～C₁₀的炔基、中的一个或多个所取代，当存在多个取代基时，所述的取代基相同或不同；R¹¹为C₁～C₆的烷基、C₃～C₆的环烷基或“C₁～C₆的烷基硅基”；R¹²为C₁～C₆的烷基。