[发明专利]电容式触控结构和电容式触摸屏及其制备方法

权利要求书

1.一种电容式触控结构，其特征在于，包括：

PET膜层；

透明光学胶基板，所述透明光学胶基板贴合于所述PET膜层上，所述透明光学胶基板具有视窗区和非视窗区；

油墨层，所述油墨层设置于所述透明光学胶基板的非视窗区之上；

透明填平层，所述透明填平层位于所述透明光学胶基板的视窗区和所述油墨层之上，用于填平所述油墨层造成的台阶；

电极层，所述电极层形成于所述透明填平层之上；

所述电极层为由ITO镀膜层或纳米银层形成的图形结构层；

还包括：电极保护层，所述电极保护层位于所述电极层之上；所述电极保护层为油墨保护层，所述油墨保护层的厚度为4-6微米；

所述PET膜层厚度为145-155微米，所述PET膜层的硬度大于9H，所述透明光学胶基板厚度为16.5-17.5微米；

所述图形结构层的厚度为50-2000埃米；

所述电极层包括电容屏驱动结构和感应电极结构。

2.一种电容式触摸屏，其特征在于，包括如权利要求1所述的电容式触控结构。

3.一种电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

A、采用网版印刷方法在透明光学胶基板的非视窗区印制油墨层；

B、采用网版印刷方法在所述透明光学胶基板的视窗区和所述油墨层上印制透明填平层以填平所述油墨层造成的台阶；

C、在所述透明填平层上制备电极层；以及

D、通过粘胶层将所述透明光学胶基板贴合于PET膜层上。

4.如权利要求3所述的电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述D在所述C之后，或者，所述D在所述A之前。

5.如权利要求3所述的电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述A，具体包括：

采用网版印刷方法在所述透明光学胶基板的非视窗区印制4-5微米厚的油墨层；以及通过加热器对所述油墨层进行烘烤，其中，烘烤温度为150-180℃，烘烤时间为10-15分钟。

6.如权利要求3所述的电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述C，具体包括：

采用真空磁控溅射方法在所述透明填平层上溅射制备原始电极层；或者

采用网版印刷的方法在所述透明填平层上印制所述原始电极层；以及

通过刻蚀的方法对所述原始电极层进行刻蚀以形成具有图形结构的电极层。

7.如权利要求3所述的电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述在透明填平层上制备电极层之后，还包括：

在所述电极层之上制备电极保护层。

8.如权利要求7所述的电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述电极保护层为油墨保护层，所述油墨保护层的厚度为4-6微米。