[发明专利]遮盖自动识别装置在审
| 申请号： | 201410235849.7 | 申请日： | 2014-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN105300329A | 公开（公告）日： | 2016-02-03 |
| 发明（设计）人： | 张镇磊;金一诺;张怀东;王坚;王晖 | 申请（专利权）人： | 盛美半导体设备(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G01B21/00 | 分类号： | G01B21/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 施浩 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 遮盖 自动识别 装置 | ||
1.一种遮盖自动识别装置，用于识别与腔体接合的遮盖的尺寸类型，包括：
第一传感器，位于腔体上的遮盖接合处；
第二传感器，位于腔体上的遮盖接合处，与第一传感器的位置并列；
第一凹槽，位于遮盖上，且遮盖与腔体接合时第一凹槽的位置与第一传感器的位置相对应；
第二凹槽，位于遮盖上，与第一凹槽的位置并列，且遮盖与腔体接合时第二凹槽的位置与第二传感器的位置相对应；
其中第一凹槽与第二凹槽的深度不同，第一传感器和第二传感器基于第一凹槽和第二凹槽的不同深度反馈不同的信号值，基于信号值识别遮盖的尺寸类型。
2.根据权利要求1所述的遮盖自动识别装置，其特征在于，第一种尺寸的遮盖的第一凹槽的深度小于第二凹槽的深度，当第一遮盖与腔体接合时，第一传感器基于第一凹槽的深度反馈信号值1，第二传感器基于第二凹槽的深度反馈信号值0。
3.根据权利要求1所述的遮盖自动识别装置，其特征在于，第二种尺寸的遮盖的第一凹槽的深度大于第二凹槽的深度，当第二遮盖与腔体接合时，第一传感器基于第一凹槽的深度反馈信号值0，第二传感器基于第二凹槽的深度反馈信号值1。
4.根据权利要求1所述的遮盖自动识别装置，其特征在于，第一传感器和第二传感器反馈的信号值还可以识别系统错误信息。
5.根据权利要求1所述的遮盖自动识别装置，其特征在于，遮盖自动识别装置应用于安装在湿法工艺腔体上的遮盖尺寸的识别。
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