[发明专利]用于光学关键尺寸测量的方法及装置

权利要求书

1.一种在OCD测量设备中提高光谱曲线匹配可靠性和测量精确度的方法，包括由所述OCD测量设备执行的以下步骤:

获取仿真模型的待测结构参数的标称值和邻近值在每个波长点的光谱数据以形成理论光谱数据库；

对各个所述待测结构参数在全体波长点的所述理论光谱进行灵敏度分析并获取各个所述待测结构参数的灵敏度随波长分布；

对各个所述待测结构参数的所述灵敏度随波长分布进行归一化处理并获取归一化的灵敏度随波长分布；

根据用户对所述待测结构参数的关注程度，所述待测结构参数对最终器件电学特性和产品优良率的影响程度来设置统化权重系数并对所述归一化的灵敏度随波长分布进行统化处理及获取统化的灵敏度随波长分布；

根据所述统化的灵敏度随波长分布，在理论光谱与测量光谱的匹配过程中在每个波长点设置匹配权重系数并计算理论光谱与所述测量光谱之间的信号偏移量；以及

对所述理论光谱与所述测量光谱进行评价优化操作并判定所述理论光谱与所述测量光谱的匹配程度。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：

根据待测样品的材料和结构信息建立所述仿真模型，设定所述仿真模型的所述待测结构参数和配置所述OCD测量设备的光学系统参数的所述标称值；

根据每个所述波长点的光谱数据集合形成的所述理论光谱共同形成所述理论光谱数据库。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述仿真模型的所述待测结构参数包括所述待测样品结构的尺寸和形貌和相关工艺控制的指标；所述光学系统参数的标称值包括光谱类型，数值孔径的平均化设置，波长范围及波长点数目，片层划分方式和精度，收敛分析阶数及入射角和方位角组合。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述灵敏度分析包括：

根据所述理论光谱数据库，计算所述仿真模型的所述待测结构参数的所述标称值和所述邻近值的理论光谱之间的计入所选波段所包含的全体波长点贡献时的整体信号偏移量；以及以所述待测结构参数的标称值为中心，在所述仿真模型的所述待测结构参数和光学系统参数条件下，在每个波长点计算各个所述待测结构参数的标称值xj的浮动变化量Δxj对应的光谱信号偏移量ΔS(x,Δxj,λi)，其中λi为在i点处的波长,i为波长点索引。