[发明专利]一种以TiH2为烧结助剂的B4C基陶瓷材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410204228.2 申请日: 2014-05-15
公开(公告)号: CN103979973A 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 傅正义;季伟;王为民;张金咏;张帆;王皓;王玉成;张清杰 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C04B35/563 分类号: C04B35/563;C04B35/622
代理公司: 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 代理人: 方放
地址: 430070 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 tih sub 烧结 助剂 陶瓷材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种以TiH2为烧结助剂的B4C基陶瓷材料,由B4C粉末和TiH2粉末混合后烧结制成,其特征在于:

各组分质量百分比为:B4C粉末90%~99%、TiH2粉末1%~10%;

所述B4C粉末平均粒径为2微米~5微米,纯度大于99%;

所述TiH2粉末粒度小于325目,纯度大于99%。

2.权利要求1所述的B4C基陶瓷材料的制备方法,包括混合步骤和烧结步骤,其特征在于:

(1)混合步骤:按质量百分比:B4C粉末90%~99%、TiH2粉末1%~10%,将B4C粉末和TiH2粉末置于球磨机中,再以无水乙醇和玛瑙球为介质,球磨混合6h~24h;真空条件下旋转蒸发,然后在真空干燥箱中50℃~80℃温度下干燥24h以上,采用100目~400目筛网过筛,制得混合粉末;

(2)烧结步骤:根据所需陶瓷材料厚度,将所述混合粉末放入石墨模具中,再将石墨模具放入热压烧结炉或者放电等离子体烧结炉内,在氩气为保护性气体的气氛中或真空中进行烧结;

热压烧结炉温度1700℃~2000℃,升温速率10℃/min~50℃/min,烧结压力为30MPa~60MPa,在最高温度下保温保压0.5h~2h,自然冷却后即得;

放电等离子体烧结炉温度1600℃~1800℃,升温速率50℃/min~200℃/min,烧结压力为30MPa~80MPa,在最高温度下保温保压3min~10min,自然冷却后即得。

3.如权利要求2所述的制备方法,其特征在于:

所述混合步骤中,所述B4C粉末平均粒径为2微米~5微米,纯度大于99%;所述TiH2粉末粒度小于325目,纯度大于99%。

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