[发明专利]固态成像装置、固态成像装置的制造方法和电子设备无效
| 申请号: | 201410178203.X | 申请日: | 2010-02-25 |
| 公开(公告)号: | CN104037183A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
| 发明(设计)人: | 熊谷至通;石渡宏明 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
| 主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 宋海宁 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 固态 成像 装置 制造 方法 电子设备 | ||
1.一种固态成像装置,包括:
多个单位像素,每个单位像素包括:
光电转换部分,把入射光转换成电信号,以及
波导,在内面具有抛物面并把所述入射光引导到所述光电转换部分,
其中,所述波导从所述光电转换部分的表面延伸。
2.权利要求1所述的固态成像装置,
其中所述单位像素包括滤色片,并且在光轴方向上所述抛物面的焦点的位置根据所述滤色片的颜色而不同。
3.权利要求1所述的固态成像装置,
其中所述单位像素包括滤色片,并且被会聚到所述抛物面的焦点的光的光斑尺寸根据所述滤色片的颜色而不同。
4.一种具有多个单位像素的固态成像装置的制造方法,每个所述单位像素包括:光电转换部分,把入射光转换成电信号;以及波导,在内面具有抛物曲面并把所述入射光引导到所述光电转换部分,该方法包括步骤:
执行如下处理,在分多个阶段逐渐增加光刻胶的孔穴尺寸的同时对在其中形成波导的绝缘层反复进行蚀刻,以在所述绝缘层中形成所述波导的孔穴,其中,所述孔穴的表面为抛物线;并且
在所述空穴中将所述光电转换部分设置成所述波导从所述光电转换部分的表面延伸。
5.权利要求4所述的固态成像装置的制造方法,
其中蚀刻气体的强度在多个阶段的蚀刻处理中被改变。
6.一种电子设备,包括:
具有多个单位像素的固态成像装置,每个所述单位像素包括:
光电转换部分,把入射光转换成电信号,以及
波导,在内面具有抛物曲面并把所述入射光引导到所述光电转换部分,
其中,所述波导从所述光电转换部分的表面延伸。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼公司,未经索尼公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410178203.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





