[发明专利]彩色滤光片柱状隔垫物形状矫正方法有效

专利信息
申请号: 201410163997.2 申请日: 2014-04-23
公开(公告)号: CN103941483A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 黎敏;杨同华;肖宇;姜晶晶;万冀豫;查长军 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G03F7/20
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李迪
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 彩色 滤光 柱状 隔垫物 形状 矫正 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种彩色滤光片柱状隔垫物形状矫正方法。

背景技术

随着显示技术的发展,高分辨率、大尺寸、高品质画面显示已成为显示领域追求的目标。彩色滤光片做为边缘场开关技术(FFS,Fringe Field Switching)模式用液晶显示器件的主要组成部分,得到了广泛的应用。

彩色滤光片主要包括玻璃基板、背板铟锡氧化物膜(ITO,Indium Tin Oxides)、黑矩阵(BM层,Black matrix)、彩色膜层(Color层)、保护膜层(OC层,Overcoat)和柱状隔垫物(PS,Photo Spacer)。其中,为提高显示品质,柱状隔垫物膜层一般设计为两种:起主要支撑作用的柱状隔垫物和起次要支撑作用的柱状隔垫物,通常情况下,起主要支撑作用的柱状隔垫物高度和大小与起次要支撑作用的柱状隔垫物存在一定的差别,一般产品尺寸越大,柱状隔垫物的尺寸将越大。

现有技术中的彩色滤光片的设计为:在显示区域内,柱状隔垫物位于黑矩阵上方,从玻璃基板表面至上依次包括黑矩阵、彩色膜层和保护膜层,其中彩色膜层成条状制作于黑矩阵上方,然后进行保护层制作,完成后再在其上制作柱状隔垫物。

上述现有技术的不足主要体现在:彩色滤光片各层均为液体光刻胶(PR,Photoresist)固化后制作而成,由于液体的流动性及黑矩阵与其两侧高度的差异,虽然有保护层的存在,但隔垫物基底表面并不平整(黑矩阵较窄的方向尤其明显),另外,对于接近式曝光机,其光线平行度(如图1所示β)对曝光图形的均一性有着很大的影响。

这样,当柱状隔垫物制作后,其上底形貌发生变化,各方向尺寸不一致,从而影响对盒时的柱状隔垫物的支撑效果,各方向受力不均也将影响显示效果,降低品质,而且,随着分辨率的提高,黑矩阵变窄的需求将越来越明显,那么平坦性的差异也将增大,柱状隔垫物形变问题也将越来越突出。

此外,在当前技术下,为尽量减小柱状隔垫物的形变,需要将柱状隔垫物设计于黑矩阵的中心区域且其尺寸不宜过大,这也限制了柱状隔垫物的位置设计空间。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明的目的是提供一种彩色滤光片柱状隔垫物形状矫正方法,以克服现有技术中柱状隔垫物制作后,上底形貌发生变化,各方向尺寸不一致,柱状隔垫物尺寸受限等问题。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题,本发明提供了一种彩色滤光片柱状隔垫物形状矫正方法,所述矫正方法包括:

对于确定的产线特性和光刻胶特性,采用测试掩膜板在平坦的隔垫物基底上制作单层柱状隔垫物,测量柱状隔垫物从其中心沿各方向到其边缘的距离与设计值的差异,得到针对曝光机光线平行度的补正值;

对于上述确定的产线特性和光刻胶特性,通过不同尺寸的隔垫物基底和柱状隔垫物,建立柱状隔垫物从其中心沿各方向到其边缘的距离与设计值的偏差模型,得到针对隔垫物基底和柱状隔垫物尺寸的偏差值;

根据所述补正值、偏差值以及柱状隔垫物设计值对应的掩膜板设计开口值得到矫正后的柱状隔垫物形状。

优选地,设柱状隔垫物从其中心沿任一方向到其边缘的距离的设计值为R,柱状隔垫物从其中心沿所述方向到隔垫物基底边缘的距离为l,所述柱状隔垫物的设计值R对应的掩膜板设计开口值为R0,所述补正值为C,所述偏差值为△R,矫正后的柱状隔垫物对应的掩模板设计开口值为R’;

l-R位于极值B和极值A之间,当l-R大于极值B时,柱状隔垫物满足正常制作要求,当l-R大于A时,柱状隔垫物的形状将不再受影响,所以,

当B<l-R<A时,

R’=R0+C+△R

当l-R≥A时,

R’=R0+C。

优选地,所述偏差模型为,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410163997.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top