[发明专利]一种OLED器件阳极结构在审

专利信息
申请号: 201410155768.6 申请日: 2014-04-18
公开(公告)号: CN103928635A 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 祝文秀 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 曾耀先
地址: 201508 上海市金山区*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 oled 器件 阳极 结构
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种OLED器件的阳极结构,尤指一种新型的具有高反射率的OLED器件阳极结构。

背景技术

OLED(Organic Light)Emitting Diode)即有机发光二极管。OLED具有自发光的特性,采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板,当电流通过时,有机材料就会发光,而且OLED显示屏幕可视角度大,并且能够显著节省电能,因此现在OLED的应用越来越广泛。

ITO(Indium Tin Oxides)是一种N型氧化物半导体,即氧化铟锡,作为纳米铟锡金属氧化物,具有很好的导电性和透明性,可以切断对人体有害的电子辐射、紫外线以及远红外线。因此,ITO通常喷涂在玻璃、塑料及电子显示屏上,用作透明导电薄膜,同时减少对人体有害的电子辐射及紫外和红外。

通常人们所说的有机发光二极管(OLED)是底发光式的有机发光二极管,一般生长在带有氧化铟锡(ITO)的玻璃上,光由衬底发出。与其相对应的还有顶发光式的有机发光二极管(TOLED),就是光不经过衬底发出,而是经过具有反射率的阳极反射,透过顶电极发出。当OLED应用到显示领域时,一般采用主动发光方式,发光器件主要是由薄膜晶体光来控制,当光经过衬底电路时发光面积就会受到影响,会缩减发光面积占整个发光面积的比率,即开口率。这样就存在了显示驱动电路与发光面积的竞争问题,由于顶发光式OLED器件具有较高的开口率,因此成为近年来研究热点。

目前顶发光式OLED器件对阳极的要求主要有:高功率函数(即降低阳极与有机材料的势垒)与高反射率(提高发光效率)。最常用的阳极结构为ITO/Ag/ITO(如图1所示,因Ag具有高反射率,所以金属反射层的材料一般选用Ag。经过大量的实验证明,当镀银层在200nm时,该阳极结构的反射率可以达到96%,但是Ag的使用成本也较高。同时阳极反射率与器件的发光效率息息相关,所以提出一种具有更高的反射率且减少镀银层厚度的阳极结构,对OLED器件来说有很大的应用前景。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种OLED器件阳极结构,结合Ag的高反射率及光栅的高衍射效率使得阳极结构的反射率达到99%。

实现上述目的的技术方案是:

本发明的一种OLED器件阳极结构,所述阳极结构包括第一氧化铟锡层、第二氧化铟锡层以及夹设于所述第一氧化铟锡层、第二氧化铟锡层之间的金属反射层;所述金属反射层与所述第二氧化铟锡层之间设置有一光栅结构层。

采用在金属反射层上增设光栅结构,因光栅结构具有高衍射效率,结合金属反射层的反射效率,可以使得本发明的阳极结构的反射率达到99%,大大的提高了OLED器件的发光效率。

本发明一种OLED器件阳极结构的进一步改进在于:所述光栅结构层的材料为SiC。

本发明一种OLED器件阳极结构的进一步改进在于:所述光栅结构层的光栅周期为500nm至800nm。

本发明一种OLED器件阳极结构的进一步改进在于:所述光栅结构层的槽深为140nm至220nm。

本发明一种OLED器件阳极结构的进一步改进在于:所述光栅结构层的剩余厚度为10nm至50nm。

本发明一种OLED器件阳极结构的进一步改进在于:所述金属反射层的材料为Ag。

通过调整合适的光栅周期、槽深以及剩余厚度,可以使得光栅结构的衍射效率达到最大,本发明的衍射理论模型是基于严格耦合波理论和增强透射矩阵方法实现的,具体严格耦合波理论分析步骤:首先,对光栅进行等厚或等宽分层,在每一分层中对电磁场做傅里叶级数展开,构建耦合波方程;其次,逐层应用电场和磁场边界连续条件,将各个分层的电场和磁场通过耦合波方程联系起来;最后,在不同区域边界上运用电磁场边界条件,求解反射衍射波振幅。再利用增强透射矩阵中矩阵求逆分解的方法求出光栅的反射振幅系数及反射率。本发明的阳极结构可以使得OLED器件的阳极反射率达到99%。

附图说明

图1为现有技术中顶发光式OLED器件的阳极结构示意图;

图2为本发明一种OLED器件阳极结构的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电有限公司,未经上海和辉光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410155768.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top