[发明专利]柔性有机电致发光器件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及有机电致发光领域，尤其涉及一种柔性有机电致发光器件及其制备方法。

背景技术

有机电致发光器件(Organic Light Emission Diode，OLED)，具有亮度高、材料选择范围宽、驱动电压低、全固化主动发光等特性，同时拥有高清晰、广视角，以及响应速度快等优势，是一种极具潜力的显示技术和光源，符合信息时代移动通信和信息显示的发展趋势，以及绿色照明技术的要求，是目前国内外众多研究者的关注重点。

柔性有机电致发光器件具有挠曲性和轻便性等有点。不锈钢薄片也可以作为柔性有机电致发光器件的衬底材料，其具有耐热性能好，强度高的优点，并且来源广泛，价格低廉等特点，但是不锈钢薄片通常表明粗糙度较大，通常其表面粗糙度Ra可以达到0.6μm以上，如果不经过处理，无法应用于柔性有机电致发光器件。一般通过在不锈钢薄片的表面镀上一层无机物薄膜，以降低不锈钢薄片的表面粗糙度。传统的无机物薄膜的厚度在5μm以上，由于无机物薄膜过厚，从而使不锈钢薄片在进行挠曲操作时，无机物薄膜会产生裂痕，从而破坏薄膜完整性，产生针孔和缺陷，并且发生与不锈钢衬底脱落的现象，使整个柔性有机电致发光器件被破坏，影响柔性有机电致发光器件的发光稳定性。

发明内容

基于此，有必要提供一种发光稳定性较好的柔性有机电致发光器件及其制备方法。

一种柔性有机电致发光器件，包括依次层叠的柔性基底、缓冲层、阳极、有机电致发光单元、阴极和封装层，所述封装层和所述柔性基底之间形成密闭空间，所述阳极、所述有机电致发光单元和所述阴极均容置在所述封闭空间内，所述有机电致发光单元包括依次层叠的空穴传输层、发光层和电子传输层，所述空穴传输层层叠设置在所述阳极上；

所述缓冲层为交替层叠3次～5次的有机缓冲薄膜和无机缓冲薄膜，所述有机缓冲薄膜的材料为酞菁铜、酞菁锌或酞菁铂，所述无机缓冲薄膜的材料为二氧化硅或氧化铝。

在一个实施例中，所述有机缓冲薄膜的厚度为100nm～200nm，所述无机缓冲薄膜的厚度为100nm～200nm。

在一个实施例中，所述柔性基底与一个所述有机缓冲薄膜直接接触。

在一个实施例中，所述封装层为交替层叠3次～5次的有机封装薄膜和无机封装薄膜，所述有机封装薄膜的材料为酞菁铜、酞菁锌或酞菁铂，所述无机封装薄膜的材料为二氧化硅或氧化铝。

在一个实施例中，所述有机封装薄膜的厚度为100nm～300nm，所述无机封装薄膜的厚度为100nm～200nm。

在一个实施例中，所述阴极与一个所述有机封装薄膜直接接触。

在一个实施例中，所述柔性基底为厚度为0.05mm～2mm的、表面粗糙度小于0.6μm的不锈钢薄片。

在一个实施例中，所述空穴传输层的材料为N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺或4,4',4''-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺，所述空穴传输层的厚度为20nm～60nm；

所述发光层的材料为5,6,11,12-四苯基萘并萘或4,4'-二(2,2-二苯乙烯基)-1,1'-联苯，所述发光层的厚度为5nm～30nm；

所述电子传输层的材料为8-羟基喹啉铝或4,7-二苯基-邻菲咯啉，所述电子传输层的厚度为20nm～40nm。

在一个实施例中，所述阳极的材料为Ag、Au或Al，所述阳极的厚度为70nm～200nm；

所述阴极的材料为Ag或Al，所述阴极的厚度为20nm～30nm。

一种上述的柔性有机电致发光器件的制备方法，包括如下步骤：

提供清洗干净的柔性基底；

在清洗干净的所述柔性基底上制备缓冲层，所述缓冲层为交替层叠3次～5次的有机缓冲薄膜和无机缓冲薄膜，所述有机缓冲薄膜通过热阻蒸发工艺制备，所述有机缓冲薄膜的材料为酞菁铜、酞菁锌或酞菁铂，所述无机缓冲薄膜通过电子束蒸发制备，所述无机缓冲薄膜的材料为二氧化硅或氧化铝；

在所述缓冲层依次蒸镀形成阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极，所述空穴传输层、所述发光层和所述电子传输层组成有机电致发光单元；以及

在所述阴极上制备封装层，得到所述柔性有机电致发光器件，所述封装层和所述柔性基底之间形成密闭空间，所述阳极、所述有机电致发光单元和所述阴极容置在所述封闭空间内。