[发明专利]触摸显示单元及其制造方法在审
申请号: | 201410129180.3 | 申请日: | 2014-04-01 |
公开(公告)号: | CN104102377A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 朴周度;田成万;金用大;金东贤 | 申请(专利权)人: | LG电子株式会社 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 高伟;陆弋 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 触摸 显示 单元 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本公开涉及一种在其一个表面上具有纳米尺寸的凹凸图案的触摸显示单元和一种用于制造该触摸显示单元的方法。
背景技术
近来,一种图像显示装置具有触摸屏功能,该触摸屏功能用于通过使用用户的手指、笔等来输入信号而非通过另外的输入装置诸如键盘。
根据数据检测方法,触摸屏功能可以被分类成电阻性类型、电容性类型、表面声波(SAW)类型、红外类型等。
随着显示装置的发展,对于移动显示器和触摸屏的研究正在活跃地进行中。为了更加清楚地输出屏幕并且增强可视性,触摸窗口的材料和结构正在不断发展中。
近来,正在提出具有增强透射性或者反射性的显示单元,该显示单元通过一种在盖玻片上沉积电极的方法或者一种在LCD和触摸面板之间移除空气层的结构而具有增强的光学功能。从显示单元发射以输出图像的光在穿过触摸面板的每一个结构的同时损失。
此外,因为显示装置的外表面由用于感测用户的触摸输入并且显示图像的强化玻璃形成,所以光从外表面反射。这可能降低可视性。
发明内容
因此,本发明的一个方面在于提供一种具有增强的可视性的触摸显示单元。
为了实现这些和其它优点并且根据本说明书的目的,如在这里体现并且一般性描述地,提供一种触摸显示单元,包括:具有第一表面和第二表面的基础基板,用户的触摸施加于第一表面,第二表面具有多个凹槽的凹凸图案;在第二表面上形成的电极层,该电极层具有用于对应于用户的触摸产生电信号的感测区域并且具有对应于该多个凹槽的一个部分的开放区域;和在电极层下方形成并且向基础基板提供光的显示面板。
凹槽可以以纳米尺寸不规则地形成。
电极层可以包括:在凹凸图案上形成的第一电极层;在第一电极层上形成的绝缘部件;和在绝缘部件上形成的第二电极层。
电极层可以包括:在凹凸图案上形成的第一电极层;在基础基板的第二表面上形成的透明粘结膜;和在透明粘结膜上形成并且与第一电极层一起地形成电信号的第二电极层。
基础基板的第一表面可以包括具有多个凹槽的凹凸图案,以便散射从外侧入射到基础基板上的光。
触摸显示单元可以进一步包括在基础基板的第一表面上形成并且配置为防止异物接触基础基板的膜,该第一表面暴露于外侧。
基础基板可以包括:形成基础基板的外表面的玻璃基板;和由模制部件形成的凹凸层,该模制部件的一个表面附接到玻璃基板的一侧并且具有凹凸图案的凹凸部分形成在模制部件的另一个表面上。
玻璃基板具有在玻璃基板的另一个表面上对应于凹凸图案地形成的纳米尺寸凹槽。
电极层可以包括:在凹凸图案上形成的第一电极;和在显示面板上形成并且配置为与第一电极一起地感测用户的触摸的第二电极。
为了实现这些和其它优点并且根据本说明书的目的,如在这里体现并且一般性描述地,还提供一种用于制造触摸显示单元的方法,该方法包括:在玻璃基板的一个表面上形成纳米掩模;利用纳米掩模蚀刻玻璃基板的所述一个表面,由此形成包括多个凹槽的凹凸结构;通过移除纳米掩模形成基础基板;并且在玻璃基板的包括该多个凹槽的所述一个表面上形成电极层。
形成纳米掩模的步骤可以包括:在玻璃基板的一个表面上形成金属层;并且向已经形成有金属层的玻璃基板施加热量,使金属层凝聚(cohere),由此形成纳米掩模。
形成电极层的步骤可以包括:相对于基准方向以预设倾斜角度固定玻璃基板;并且通过在基准方向上向玻璃基板提供气体,在玻璃基板的一个表面上形成电极层。
该方法可以进一步包括:在盖玻片上沉积模制部件;在模制部件上布置玻璃基板,使得玻璃基板的一个表面面对盖玻片;挤压玻璃基板,使得利用凹槽在模制部件处形成凹凸图案;并且移除玻璃基板。
该方法可以进一步包括在模制部件的已经形成有凹凸图案的一个表面上形成电极层,其中模制部件由透明材料形成。
该方法可以进一步包括:在玻璃基板的另一个表面上形成金属层;向已经形成有金属层的玻璃基板施加热量,由此使金属层凝聚;并且通过将利用热而凝聚的多个金属片用作掩模,在玻璃基板的另一个表面上形成多个凹槽。
该方法可以进一步包括在玻璃基板的另一个表面上形成膜,以便防止异物被引入玻璃基板。
形成纳米掩模的步骤可以包括:在玻璃基板的一个表面上形成金属层;在金属层上形成由多个珠体形成的单一珠体层;通过使用氧等离子体蚀刻珠体,并且在所述珠体之间具有间隔的情况下将珠体相互分离;并且通过使用珠体作为掩模蚀刻金属层,由此形成纳米掩模。
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