[发明专利]一种红外光学遥感器杂散辐射测试装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种红外光学遥感器杂散辐射测试装置，主要应用于航天光学遥感器的杂散辐射测试中。

背景技术

对于一个工作状态下的红外光学遥感相机，到达红外探测器阵列上的杂散辐射可分为两大类：一类是物空间视场以外的外杂散辐射，辐射源如太阳光和地气漫反射光；另一类是光机系统自身在内部产生的内杂散辐射，辐射源例如红外光学遥感器的结构组件、透镜、反射镜等元件表面等，这部分杂散辐射是由系统自身的温度、发生热辐射表面的发射率和面积等因素决定的。目前，红外光学遥感相机的杂散辐射的仿真分析和抑制结果存在分析结果不准确且无法验证的难题，无法保证红外光学遥感器的杂散辐射抑制效果，因此迫切需要研制对内、外杂散辐射均具有测试功能的测试装置，以验证红外光学遥感器杂散辐射仿真分析结果的可靠性，并保证红外遥感器的信噪比满足设计要求。

发明内容

本发明要解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种红外光学遥感器杂散辐射测试装置，该装置不仅可以对红外光学遥感器的外杂散辐射进行测试，而且可以对红外光学遥感器的内杂散辐射进行测试。该装置集两种测试功能于一身，可测试普通对面源成像的红外光学遥感器或者对点探测的低温红外光学遥感器的杂散辐射。

本发明的技术解决方案是：一种红外光学遥感器杂散辐射测试装置，包括闸门阀（2）、挡光板（3）、制冷器（4）、准直反射镜（5）、真空仓（6）、离轴抛物反射镜（7）、折转镜（8）、第一光束整形装置（9）、光学平台（10）、光源（11）、第二光束整形装置（12）、二维转台（13）和辐照度计（14）；被测装置（1）由闸门阀（2）连接在真空仓（6）上，挡光板（3）、制冷器（4）、准直反射镜（5）、离轴抛物反射镜（7）、折转镜（8）均位于真空仓（6）中，被测装置（1）和真空仓（6）、第一光束整形装置（9）、第二光束整形装置（12）、光源（11）位于光学平台（10）上，准直反射镜（5）位于二维转台（13）上；所述被测装置（1）为一个红外光学遥感器的光机镜头组件，该组件的焦平面处放置辐照度计（14）;

测试过程中整个测试装置需放置在黑室（15）内,在测试内部杂散辐射时，将制冷器（4）移动至被测装置（1）的视场以内；当测试被测装置（1）的外杂散辐射时，制冷器（4）位于被测装置（1）的有效测试光路之外，其作用为对真空仓（6）的仓体内部进行制冷；当测试被测装置（1）内部杂散辐射时，制冷器（4）平移进入被测装置（1）的有效测试光路之内，对被测装置（1）制冷的同时遮挡进入被测装置（1）视场内的所有光线；且制冷器（4）需进行粗糙化处理，并镀上光谱吸收率高达0.85以上的吸收膜，使制冷器（4）表面对光具有强吸收性。

所述制冷器（4）采用液氮进行制冷，制冷温度达100K以下，且真空舱内为密闭不透光的黑色背景。

所述真空仓体（6）为圆柱体，横截面直径达1米以上。

所述闸门阀（2）的口径达0.5米以上。

所述准直反射镜（5）口径达0.5米以上，准直反射镜（5）的二维旋转范围是侧摆角达-90°～90°，俯仰角达-90°～90°。

所述的红外辐照度计（14）的测量波长为1～12μm，能够测量所有达到红外光学遥感器焦面处的辐照度，且其辐照度灵敏度高于红外光学遥感器本身的探测器。

本发明与现有技术相比的有益效果是：

（1）本发明克服了目前对红外光学遥感器杂散辐射水平的分析无法通过测试进行验证的问题，综合考虑外杂散辐射和内杂散辐射两种因素的影响进行设计，该测试设备在测试外杂散辐射时剔除了内杂散辐射的影响，反之，测试内杂散辐射时也剔除了外杂散辐射的影响，有利于对杂散辐射分析和抑制设计提供精确的测试和验证。

（2）本发明可分别测试外杂散辐射和内杂散辐射，可用于对面源探测的常温红外光学遥感器或者对点源探测的低温红外光学遥感器的红外杂散辐射测试，该测试设备集多种功能于一身，一体化程度高，通用性较强。

附图说明

图1为本发明测试装置的剖面俯视图；

图2为本发明在进行内杂散辐射测试的工作原理图。

具体实施方式