[发明专利]金属薄膜以及金属薄膜形成用Mo合金溅射靶材有效
| 申请号： | 201410056816.6 | 申请日： | 2014-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN103993262B | 公开（公告）日： | 2016-04-06 |
| 发明（设计）人： | 村田英夫 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C14/34;C22C27/04 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属 薄膜 以及 形成 mo 合金 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种金属薄膜，其特征在于，
其包括：合计3原子％以上的自Cr、Zr及Ta的元素组A中选出的一种以上 元素和10原子％～20原子％的Ni，并且自上述元素组A中选出的元素与上述Ni 合计为50原子％以下，剩余部分由Mo以及不可避免的杂质构成。
2.根据权利要求1所述的金属薄膜，其特征在于，
自上述元素组A中选出的元素为Cr及/或Zr，其添加量合计为3原 子％～20原子％。
3.根据权利要求1所述的金属薄膜，其特征在于，
自上述元素组A中选出的元素为Ta，其添加量为3原子％～15原子％。
4.一种金属薄膜形成用Mo合金溅射靶材，其特征在于，
其包括：合计3原子％以上的自Cr、Zr及Ta的元素组A中选出的一种以上 元素和10原子％～20原子％的Ni，并且自上述元素组A中选出的元素与上述Ni 合计为50原子％以下，剩余部分由Mo以及不可避免的杂质构成。
5.根据权利要求4所述的金属薄膜形成用Mo合金溅射靶材，其特征在于，
自上述元素组A中选出的元素为Cr及/或Zr，其添加量合计为3原 子％～20原子％。
6.根据权利要求4所述的金属薄膜形成用Mo合金溅射靶材，其特征在于，
自上述元素组A中选出的元素为Ta，其添加量为3原子％～15原子％。
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