[发明专利]质谱法中操作滤质器的方法有效
申请号: | 201410050376.3 | 申请日: | 2014-02-13 |
公开(公告)号: | CN103996597B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | N·E·戴莫克;O·兰格;D·诺尔廷;J-P·哈奇尔德;A·库恩 | 申请(专利权)人: | 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司 |
主分类号: | H01J49/06 | 分类号: | H01J49/06 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 姬利永 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 质谱法中 操作 滤质器 方法 | ||
技术领域
本发明总体上涉及使用滤质器、尤其(但并非唯一地)四极滤质器的质谱法。它涉及减少所述滤质器中的污染。
背景技术
如众所周知的,滤质器(例如,具有圆形杆或双曲线形杆的四极杆)用于许多质谱仪中以将一种离子种类与另一种分离。在一个四极滤质器中,相对的杆对被连接在一起。为了选择具有一个或多个感兴趣的质荷(m/z)比的离子,将用一个DC电压叠合的一个RF电压施加在这两个杆对之间。也就是说,该第一相对杆对的杆被连接在一起,使得这些杆具有彼此相同的相位,同时该第二相对杆对的杆被连接在一起,使得这些杆具有彼此相同的相位,但与该第一杆对上的相位相反。
通过将DC电压和RF电压幅值的组合调节至适当值可以选择感兴趣的m/z比。一个所选择的感兴趣的m/z范围在该四极杆内是稳定的并且将被传输穿过它。所有其他离子将是不稳定的并且许多将击中这些四极杆中的一个或多个。击中这些杆的表面的一些离子可能粘在该表面上。一个撞击离子粘在该表面上的趋势可以取决于(除其他因素之外)它的样品类别(分子结构)、它的入射角、它的动能、该表面温度、该表面粗糙度、以及该表面材料。粘在该表面上的离子可以因此修改该表面的材料的功函数并且可以形成易于发生荷电效应的绝缘层。
在大多数应用中,几乎不需要清洁这些杆并且确实典型地根本不要求或仅要求每隔几年进行清洁。这是典型地对于例如小分子应用的情况。然而,在一些极端应用的条件下,例如在某些蛋白质组学应用的情况下,使用窄分离范围的前体离子并且当使用在纳米LC柱上非常高的负载对整个蛋白质组消化物进行分析时,荷电效应在几个月后并且在最糟糕的情况下在几天的全天运行后将是可见的。该荷电效应将降低该装置的总体传输并且导致该实验的一般灵敏度损失。为了恢复该灵敏度,必须物理地清洁该四极滤质器,这导致仪器停工时间和维修成本。
发明内容
针对以上背景,本发明在一方面提供一种质谱方法,该质谱方法包括:
将离子从一个离子源传输穿过一个滤质器;
提供用于一个处理从该滤质器接收的离子的、在该滤质器下游的、不连续的离子光学装置;
在一个质荷比(m/z)过滤模式下操作该滤质器多个周期,以便将在一个或多个选择的m/z范围内的离子传输至该不连续的离子光学装置;并且
在其中该不连续的离子光学装置不处理来自该滤质器的离子的一个或多个周期的过程中,在一个宽质量范围模式下操作该滤质器,该宽质量范围模式传输的离子的质量范围比在该m/z过滤模式下传输的任何质量范围实质上更宽。
在另一方面,本发明提供一种质谱仪,该质谱仪包括:
一个用于产生离子的离子源;
一个用于将离子从该离子源传输的滤质器;
一个用于处理从该滤质器接收的离子的、在该滤质器下游的、不连续的离子光学装置;以及
一个控制器,该控制器被安排为在一个质荷比(m/z)过滤模式下操作该滤质器多个周期,以将在一个或多个选择的m/z范围内的离子传输至该不连续的离子光学装置,并且在其中该不连续的离子光学装置不处理来自该滤质器的离子的一个或多个周期的过程中,在一个宽质量范围模式下操作该滤质器,该宽质量范围模式传输的离子的质量范围比在该m/z过滤模式下传输的任何质量范围实质上更宽。
优选地,该宽质量范围模式是一个实质上非m/z过滤模式。
在一个另外的方面,本发明提供一个具有程序代码的计算机程序,该程序代码使得一个控制器(例如,该谱仪的控制器)能够根据本发明的方法操作该滤质器。在该另外的方面,本发明优选提供一个具有程序代码的计算机程序,该程序代码使得该控制器(即,当在该控制器的计算机上执行该程序时)能够在一个质荷比(m/z)过滤模式下操作该滤质器多个周期,以将在一个或多个选择的m/z范围内的离子传输至该不连续的离子光学装置,并且能够在其中该不连续的离子光学装置不处理来自该滤质器的离子的一个或多个周期的过程中,在一个宽质量范围模式或实质上非m/z过滤模式下操作该滤质器。在一个再另外的方面,本发明提供一个承载该计算机程序的计算机可读介质。该介质通过一个计算机是可读的,使得可以在该计算机上执行该程序。
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