[发明专利]光电转换结构、应用其的太阳能电池及其制造方法无效
申请号: | 201410041878.X | 申请日: | 2014-01-28 |
公开(公告)号: | CN103730522A | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 黄明义;杨伯川;何志浩;王新平;林姿吟 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/20 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 张浴月;李玉锁 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电 转换 结构 应用 太阳能电池 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种光电转换结构、应用其的太阳能电池及其制造方法。
背景技术
随着科技的进步,人类对于能源的需求也日益增加。有鉴于有限的石油资源已渐渐无法应付人类大量的能源需求,业界与科学家们纷纷投入新能源的研究与发展,而太阳能即为大众欲发展的新能源之一。
太阳能电池能够吸收太阳光,并将太阳光的光能转换为电能。为了增加太阳光的提取量,一般而言会形成多个微米与/或纳米结构于太阳能电池的入光面上,以破坏太阳能电池的入光面的反射。然而因形成的纳米结构的表面过于粗糙,使得太阳能电池所产生的载子具有高复合率,如此一来反而会降低太阳能电池的短路电流密度(Jsc)与开路电压(V)。
发明内容
为克服现有技术的缺陷,本发明的一方案提供一种光电转换结构,包含基板、第一半导体结构与第二半导体结构。基板具有两相对的第一表面与第二表面。第一表面具有多个微米结构以及多个纳米结构。纳米结构分布于微米结构表面上,且纳米结构的高度为约500纳米至900纳米。第一半导体结构置于基板的第一表面上。第二半导体结构置于基板的第二表面上。
在本发明一个或多个实施方式中,每一微米结构为金字塔、凹洞或其混合。
在本发明一个或多个实施方式中,每一微米结构的高度为约1微米至20微米。
在本发明一个或多个实施方式中,第一半导体结构为N型半导体层,且第二半导体结构为P型半导体层。或者第一半导体结构为P型半导体层,且第二半导体结构为N型半导体层。
在本发明一个或多个实施方式中,第一半导体结构包含i型半导体层与p型半导体层。i型半导体层置于基板的第一表面,且置于p型半导体层与基板的第一表面之间。第二半导体结构包含i型半导体层与n+型半导体层。i型半导体层置于基板的第二表面,且i型半导体层置于n+型半导体层与基板的第二表面之间。
本发明的另一方案提供一种太阳能电池,包含上述光电转换结构、第一电极结构与第二电极结构。第一半导体结构置于第一电极结构与基板之间。第二半导体结构置于第二电极结构与基板之间。
在本发明一个或多个实施方式中,第一电极结构包含透明导电层与至少一金属电极。第一半导体结构置于透明导电层与基板之间。部分透明导电层置于金属电极与第一半导体结构之间。
在本发明一个或多个实施方式中,第二电极结构为一金属层。
在本发明一个或多个实施方式中,第二电极结构包含透明导电层与至少一金属电极。第二半导体结构置于透明导电层与基板之间。部分透明导电层置于金属电极与第二半导体结构之间。
在本发明一个或多个实施方式中,光电转换结构的基板的第二表面具有多个微米结构,且第二电极结构包含透明导电层与至少一金属电极。第二半导体结构置于透明导电层与基板之间。金属电极全面覆盖透明导电层。
本发明的又一方案提供一种光电转换结构的制造方法,包含下列步骤(应了解到,在本实施方式中所提及的步骤,除特别说明其顺序外,均可依实际需要调整其前后顺序,甚至可同时或部分同时执行):
提供基板。
形成多个微米结构于基板的第一表面。
蚀刻微米结构,使得每一微米结构表面形成多个纳米结构。
蚀刻纳米结构。
形成第一半导体结构于基板的第一表面上。
形成第二半导体结构于基板的第二表面上。
在本发明一个或多个实施方式中,步骤(4)包含:
(4.1)将纳米结构的高度蚀刻至500纳米至900纳米。
在本发明一个或多个实施方式中,蚀刻纳米结构的方法为各向同性湿式蚀刻。
在本发明一个或多个实施方式中,蚀刻纳米结构的方法为各向异性湿式蚀刻。
在本发明一个或多个实施方式中,步骤(3)包含:
(3.1)形成多个催化剂于微米结构上。
(3.2)借由催化剂蚀刻微米结构,以形成纳米结构于微米结构表面。
在本发明一个或多个实施方式中,步骤(3)包含:
(3.3)一并将催化剂去除。
在本发明一个或多个实施方式中,催化剂为金属纳米粒子。
在本发明一个或多个实施方式中,蚀刻微米结构的方法为各向异性湿式蚀刻。
在本发明一个或多个实施方式中,形成微米结构的方法包含形成第一微米结构,且第一微米结构的形成方法为各向同性湿式蚀刻。
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