[发明专利]一种优化可利霉素组分的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种抗生素分离纯化的方法，尤其是涉及一种优化可利霉素组分的方法。

背景技术

可利霉素是由4″异戊酰基转移酶基因克隆至螺旋霉素产生菌中，形成的以4″位异戊酰基螺旋霉素为主要组分的新型抗生素，其结构式如图1所示，图1中，R₂=OCOCH₂CH(CH₃)₂，R₁不同时，表示三种异戊酰螺旋霉素，具体为：R₁=H(异戊酰螺旋霉素I)，R₁=COCH₃(异戊酰螺旋霉素II)，R₁=COCH₂CH₃(异戊酰螺旋霉素III)。

与螺旋霉素(SPM)相比，异戊酰螺旋霉素在4″位具有异戊酰基侧链，且其理化性质与SPM也不同，在体内稳定性也较强，对革兰氏阳性菌和红霉素耐药菌等具有更好的抗菌活性。

由于异戊酰基转移酶对底物的不专一性，致使可利霉素是具有多种组分的混合物，除了已知结构的异戊酰螺旋霉素等有效组分外，还存在许多未知杂质。作为国家一类多组分抗生素新药，对其产品中各活性组分和杂质的含量有严格而可控的质量标准。在分离纯化过程中，极性较强的杂质可以通过吸附、萃取、洗涤等分离方法去除，但是与异戊酰螺旋霉素III极性及其相近的杂质则无法去除，甚至会因在洗涤过程中去除了强极性杂质而使其在产品中的含量有所增加，不符合药物控制指标。因此，在原有分离技术的基础上，开发主要针对弱极性杂质的具有分离特异性的工艺方法，可以进一步提高可利霉素产品的质量和生产效率。

目前，对可利霉素组分优化的工艺研究较少，大多数研究主要集中在螺旋霉素的组分优化上，其中邢冰梅研究了降低螺旋霉素成品中杂质含量的提取工艺，在溶剂萃取法的工艺基础上，对萃取液用缓冲液洗涤，以除去前杂质，工艺条件为：0.01mol／LKH₂PO₄、pH3.8～4.0缓冲液，下相pH7.0～7.4，温度20～25℃；提高反萃pH以降低后杂质，反萃取工艺条件为：0.1mol／L，KH₂PO₄，pH2.6缓冲液，下相pH5.9～6.2，温度30～33℃。由于反萃取pH较高，回收率受到一定限制。

发明内容

本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种优化可利霉素组分的方法。

本发明的目的可以通过以下技术方案来实现：

一种优化可利霉素组分的方法，采用分步结晶的方法从水相中提取可利霉素，富集异戊酰螺旋霉素III，去除弱极性杂质，具体包括如下步骤：

(1)通过膜分离、大孔树脂吸附洗脱、洗涤和萃取操作，将可利霉素发酵液中的可利霉素萃取到水相中，使水相中的异戊酰螺旋霉素III>25wt％；

(2)向步骤(1)所得水相中滴加碱液，至pH为6.9～7.2，使可利霉素在水相中部分结晶，抽滤，获得固体粗产品和母液，其中弱极性杂质更多的存在于粗产品中，而母液中弱极性杂质则含量较少；

(3)向母液中继续滴加碱液至pH为8.3～8.7时停止，抽滤，得到固体精产品，即为可利霉素最终成品；

(4)回收粗产品，将之归并到步骤(1)的洗脱液中，并通过洗涤、萃取和结晶的方法完成回收利用。

其中，粗产品富集了大部分弱极性杂质。

步骤(1)中可利霉素发酵液的效价为1000～1400u／ml。

步骤(1)所述的膜分离指：将可利霉素发酵液采用无机陶瓷膜过滤后，滤液用纳滤膜浓缩至效价为4000～5000u/ml，其中，无机陶瓷膜的孔径为100～300nm，无机陶瓷膜过滤的压力为0.1MPa，温度为15～39℃，纳滤膜的孔径为1nm，纳滤膜过滤的压力1.0MPa，温度为17～35℃。

步骤(1)所述的大孔树脂吸附洗脱具体为：纳滤膜浓缩后的浓缩液以3～4BV／h的流速经过大孔树脂吸附，用乙酸丁酯洗脱，洗脱流速为2～3BV/h，洗脱体积为2～3BV，洗脱液效价为15000～17000u／ml。

步骤(1)中洗涤用液为0.5～0.7wt％的磷酸盐溶液。

步骤(1)中萃取是指：先用0.5～0.7wt％的磷酸盐溶液进行萃取，萃取时水相与酯相体积比为1∶2～1∶4，再滴加磷酸溶液，使得平衡时的pH为4.2～4.4，使水相效价为40000～45000u／ml。