[发明专利]具有印模结构的印模及其制造方法有效
| 申请号： | 201380081300.0 | 申请日： | 2013-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN105765457B | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | M.乔伊基 | 申请（专利权）人： | EV集团E·索尔纳有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 72001 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张华;林森 |
| 地址： | 奥地利圣*** | 国省代码： | 奥地利;AT |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 印模 结构 及其 制造 方法 | ||
1.具有印模结构的压印印模，其中所述印模结构至少部分由作为印模材料的有机硅形成，其中所述压印印模可变形，其中该压印印模具有小于10000 MPa的E模量，其中所述压印印模的表面粗糙度小于1微米，其中压花材料和所述压印印模之间的粘附以能量面积密度描述小于2.5 J/m2，并且其中如果印模材料亲水，则压花材料疏水，或者如果印模材料疏水，则压花材料亲水，或者压花材料和印模材料两者都疏水。
2.根据权利要求1的印模，其中所述印模材料具有环氧基和/或丙烯酰基。
3.根据权利要求1或2的印模，其中所述印模材料由一种或多种下述提及的材料形成：
- 丙烯酸酯有机硅或环氧有机硅，
- 多面体低聚倍半硅氧烷，
- 原硅酸四乙酯和/或
- 聚有机硅氧烷。
4.根据权利要求1或2的印模，其中所述印模材料是通过紫外线辐射或通过热辐射硬化了的或者能通过紫外线辐射或通过热辐射进行硬化的。
5.根据权利要求1或2的印模，其中所述印模材料在5000纳米至10纳米的波长范围内是透明的。
6.根据权利要求1或2的印模，其中所述印模材料在1000纳米至100纳米的波长范围内是透明的。
7.根据权利要求1或2的印模，其中所述印模材料在700纳米至200纳米的波长范围内是透明的。
8.根据权利要求1或2的印模，其中所述印模材料在500纳米至400纳米的波长范围内是透明的。
9.用于形成压印印模的印模结构的方法，其中所述印模结构至少部分由作为印模材料的有机硅形成，其中所述压印印模可变形，其中该压印印模具有小于10000 MPa的E模量，其中所述压印印模的表面粗糙度小于1微米，其中压花材料和所述压印印模之间的粘附以能量面积密度描述小于2.5 J/m2，并且其中如果印模材料亲水，则压花材料疏水，或者如果印模材料疏水，则压花材料亲水，或者压花材料和结构印模两者都疏水。
10.根据权利要求9的方法，其中通过紫外线辐射或通过热辐射硬化所述印模结构的印模材料。
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