[发明专利]用于生产永磁体的方法和永磁体

权利要求书

1.一种用于制造纳米结构的永磁体(20)的方法，包括以下步骤：

(a)提供一种磁性材料(12)的粉末(10)，其中该磁性材料(12)是一种铁磁性金属或铁磁性金属合金，

(b)使用抗磁性或顺磁性涂覆材料(17)的一个涂层(16)涂覆这些粉末颗粒(11)，

(c)将这些涂覆的颗粒(13)压制成一种压坯(19)，

(d)在不发生该磁性材料(12)的烧结的条件下烧结该涂覆材料(17)同时将该涂覆材料(17)转移至一个抗磁性或顺磁性材料(22)的基体(21)中，该基体嵌入该磁性材料(12)的颗粒，并且

(e)在一个外磁场中磁化该磁性材料(12)，

其中步骤(c)、(d)和(e)可以按任何所希望的相继顺序或同时地以任何所希望的组合进行。

2.如权利要求1所述的方法，其中在最大等于该涂覆材料(17)的转变或熔化温度的温度下进行该步骤(d)中的热处理。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中步骤(b)中的该涂覆通过一种干沉积方法进行。

4.如权利要求1或2所述的方法，其中该抗磁性或顺磁性基体材料(22)是一种玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷、或金属玻璃。

5.如权利要求1或2所述的方法，其中在步骤(b)中，该涂覆材料(17)的一种化学前体材料用作一种用于该涂覆材料(17)的起始材料，该化学前体材料在涂覆期间或之后发生化学反应而形成该涂覆材料(17)。

6.如权利要求1或2所述的方法，其中在步骤(a)中的该粉末(10)具有最大3μm的平均粒径。

7.如权利要求1或2所述的方法，其中在步骤(b)中产生的该涂层(16)的平均涂层厚度是最大100nm。

8.如权利要求1所述的方法，其中在比该涂覆材料(17)的转变或熔化温度低至少50K的温度下进行该步骤(d)中的热处理。

9.如权利要求1或2所述的方法，其中步骤(b)中的该涂覆通过一种化学或物理气相沉积方法进行。

10.如权利要求1或2所述的方法，其中在步骤(a)中的该粉末(10)具有最大1μm的平均粒径。

11.如权利要求1或2所述的方法，其中在步骤(a)中的该粉末(10)具有在0.1至0.6μm的范围内的平均粒径。

12.如权利要求1或2所述的方法，其中在步骤(a)中的该粉末(10)具有在0.2至0.4μm范围内的平均粒径。

13.如权利要求1或2所述的方法，其中在步骤(b)中产生的该涂层(16)的平均涂层厚度是在1至10nm的范围内。

14.如权利要求1或2所述的方法，其中在步骤(b)中产生的该涂层(16)的平均涂层厚度是在2至5nm的范围内。

15.如权利要求1或2所述的方法，其中该磁性材料(12)是一种选自SE-TM-B或SE-TM类型的合金的铁磁性金属合金，其中SE是一种稀土元素，TM是一种铁族的过渡金属，并且B是硼。

16.一种永磁体(20)，如前述权利要求任一项所述的方法而制造，该永磁体具有包括具有最大3μm的平均粒径的永磁材料(12)的芯(15)和一个抗磁性或顺磁性材料(22)的基体(21)的纳米结构，在该基体中嵌入这些芯(15)。

17.一种电机，包括至少一个如权利要求16所述的永磁体(20)。